研課題
J-GLOBAL ID:201204056348109294  研究課題コード:9437 更新日:2013年10月07日

高プラズマ耐性セラミックス膜の高速低音コーティングと応用

実施期間:2006 - 継続中
実施機関 (1件):
実施研究者(所属機関) (1件):
研究概要:
半導体デバイスの製造過程において、半導体膜のプラズマエッチングは重要なプロセスの一つである。その際、基板サセプタや周辺部材もエッチングされ、膜への不純物の混入する大きな原因になっている。従来、サセプタにはアルミナが用いられてきたが、デバイスの集積密度の向上とともに、よりプラズマ耐性の高いイットリアが期待されつつある。しかし、イットリアは高価であることから、イットリア膜をアルミナあるいはアルミニウム製サセプタへコーティングすることが求められる。コーティングは、数100.m の厚さが必要であることから、従来の
研究制度: シーズ発掘試験
研究所管省庁:
文部科学省
研究所管機関:
独立行政法人科学技術振興機構
上位研究課題 (1件):

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