研課題
J-GLOBAL ID:201204098669038385  研究課題コード:9034 更新日:2013年10月07日

固体電解質膜作製のためのドライプロセス技術の開発

実施期間:2007 - 継続中
実施機関 (1件):
実施研究者(所属機関) (1件):
研究概要:
電子機器の超小型エネルギー源として期待される薄膜バッテリーや薄膜スーパーキャパシタには、高イオン伝導性の固体電解質膜が必須である。本研究では、代表的なドライプロセス技術であるスパッタリング法において、水蒸気を反応ガスとして用いることで、プロトン伝導性のTa2O5固体電解質膜を作製する。
研究制度: シーズ発掘試験
研究所管省庁:
文部科学省
研究所管機関:
独立行政法人科学技術振興機構
上位研究課題 (1件):

前のページに戻る