研課題
J-GLOBAL ID：201204099052949387
研究課題コード：9760
更新日：2013年10月07日
応用プロセス用大口径・高密度・低アスペクト比化されたヘリコンプラズマ源の開発
実施期間：2009 - 継続中
実施機関 (1件)：
実施研究者（所属機関） (1件)：
研究概要：
LSI用のシリコンウエハ、液晶表示、太陽電池などの大型化のための半導体薄膜の形成やエッチングなどの産業応用およびプラズマロケット等には、15インチ以上の大口径・高密度のプラズマ源が不可欠である。特にヘリコンプラズマは高密度が容易に得られるため、次世代プラズマ源として注目を集めている。本研究では、直径40cmと74cmの世界最大級の大口径装置で、0.5以下の低アスペクト比でも1012cm-3以上の高密度ヘリコンプラズマを生成できるかという可能性に挑戦し、その特性を評価する。
研究制度：
シーズ発掘試験
研究所管省庁：
研究所管機関：
上位研究課題 (1件)：
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