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J-GLOBAL ID：201302200221579848   整理番号：13A1317537

フッ素化グラフェンの熱的性質

Thermal properties of fluorinated graphene

著者 (8件)： SINGH Sandeep Kumar (Universiteit Antwerpen, Antwerpen, BEL) ,  SRINIVASAN S. Goverapet (Pennsylvania State Univ., Pennsylvania, USA) ,  NEEK-AMAL M. (Universiteit Antwerpen, Antwerpen, BEL) ,  NEEK-AMAL M. (Shahid Rajaee Teacher Training Univ., Tehran, IRN) ,  COSTAMAGNA S. (Universiteit Antwerpen, Antwerpen, BEL) ,  COSTAMAGNA S. (Universidad Nacional de Rosario, Rosario, ARG) ,  VAN DUIN Adri C. T. (Pennsylvania State Univ., Pennsylvania, USA) ,  PEETERS F. M. (Pennsylvania State Univ., Pennsylvania, USA)
資料名： Physical Review. B. Condensed Matter and Materials Physics  (Physical Review. B. Condensed Matter and Materials Physics)
巻： 87  号： 10  ページ： 104114.1-104114.6  発行年： 2013年03月 
JST資料番号： D0746A  ISSN： 1098-0121  CODEN： PRBMDO  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 単層グラフェン(GE)の持つ非常に興味深い性質は,固体物理の研究者達に大きな関心を呼び起こした。電子移動度が非常に大きいにも拘わらず,ゼロギャップであるために,伝導状態と非伝導状態の間のオン-オフ比が小さく,ナノトランジスタへの応用が困難になっている。バンドギャップの調整は,吸着原子の付加によっても可能であるが,吸着原子によって,移動度も変化するという問題がある。水素とフッ素は付着原子として良く研究されている原子である。本稿では,フッ素化グラフェン(FG)の熱的性質を研究した結果を報告する。FGの熱機械特性を研究するために,反応力場法を用いた大規模原子論的シミュレーションを試みた。関連する炭素-フッ素クラスターシステムの重要な量子力学的特性を最適化するための反応力場ポテンシャルに関する一連のパラメータを示す。分子動力学シミュレーションを用いて,FGの熱的リプリング挙動と機械的特性を研究し,グラフェン,グラファンおよび窒化ホウ素シートと比較した。異なるシステムサイズと温度に関する高さの揺らぎ〈h²〉,および高さ-高さの相関関数H(q)の平均二乗値から,FGはグラフェンの持つ熱的リプリング挙動とは対照的にリプリングの無い系であることが分かった。FGの薄片に関する有効Young率は,アームチェア方向に沿った1軸性歪みの下,およびジグザグ方向に沿った一軸性歪みの下において,それぞれ273N/m,および250N/mであることが分かった。

シソーラス用語： *フッ化物 ,  *炭素材 ,  計算機シミュレーション ,  *物理的性質 ,  クラスタ ,  反力 ,  ポテンシャル ,  高さ ,  ゆらぎ ,  相関関数 ,  Young率 ,  歪 ,  水素化物 ,  *グラフェン
準シソーラス用語： *フッ素化グラフェン ,  *フッ素化物 ,  一軸歪 ,  原子論的シミュレーション ,  *熱機械的性質 ,  反力場 ,  分子動力学シミュレーション ,  グラファン

分類 (1件)： 固体の機械的性質一般  (BL01021C)

タイトルに関連する用語 (2件)： フッ素化グラフェン ,  熱的性質