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J-GLOBAL ID：201302201813279231   整理番号：13A0138127

ゼオライトイミダゾラート構造体膜合成に適用した電界紡糸技術

Electrospinning technology applied in zeolitic imidazolate framework membrane synthesis

著者 (5件)： FAN Lili (Jilin Univ., Changchun, CHN) ,  XUE Ming (Jilin Univ., Changchun, CHN) ,  KANG Zixi (Jilin Univ., Changchun, CHN) ,  LI Huan (Jilin Univ., Changchun, CHN) ,  QIU Shilun (Jilin Univ., Changchun, CHN)
資料名： Journal of Materials Chemistry  (Journal of Materials Chemistry)
巻： 22  号： 48  ページ： 25272-25276  発行年： 2012年12月28日 
JST資料番号： W0204A  ISSN： 0959-9428  CODEN： JMACEP  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 硝酸亜鉛と2-メチルイミダゾールをメタノール中150°C,5時間ソルボサーマル反応させてゼオライトイミダゾラート-8(ZIF-8)ナノ粒子を合成し,ポリビニルピロリドン(PVP)メタノール溶液に分散させて多孔質シリカ担体に電界紡糸した。この基板を硝酸亜鉛,2-メチルイミダゾールおよびトリエチルアミンのジメチルホルムアミド溶液に浸漬し,120°Cで24時間反応させてZIF-8を析出させた。窒素気流中150°Cで12時間熱処理した後にSiO₂/ZIF-8膜の気体透過挙動を調べ,混合気体の透過における水素選択性を見いだした。H₂/N₂,H₂/CO₂およびH₂/CH₄の透過比はそれぞれ4.9,7.3および4.8であった。

シソーラス用語： 亜鉛錯体 ,  橋架け錯体 ,  エレクトロスピニング ,  透過 ,  水素 ,  *膜 ,  *二酸化ケイ素
準シソーラス用語： *配位重合体 ,  *シリカ ,  *MOF【配位重合体】 ,  気体透過 ,  *多孔質膜

分類 (2件)： 固-気界面一般  (CB12041H) ,  第11族,第12族元素の錯体  (CE01050Y)

物質索引 (1件)： 2-メチルイミダゾール

タイトルに関連する用語 (2件)： 構造体 ,  電界紡糸