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J-GLOBAL ID：201302202297897825   整理番号：13A1592716

ダイヤモンド及びその関連材料の紫外線照射精密研磨

Ultraviolet-irradiated precision polishing of diamond and its related materials

著者 (3件)： WATANABE Junji (Innovative Collaboration Organization, Kumamoto Univ., 2-39-1 Kurokami, Chuou-ku, Kumamoto 860-8555, JPN) ,  TOUGE Mutsumi (Graduate School of Sci. and Technol., Kumamoto Univ., 2-39-1 Kurokami, Chuou-ku, Kumamoto 860-8555, JPN) ,  SAKAMOTO Takeshi (Graduate School of Sci. and Technol., Kumamoto Univ., 2-39-1 Kurokami, Chuou-ku, Kumamoto 860-8555, JPN)
資料名： Diamond and Related Materials  (Diamond and Related Materials)
巻： 39  ページ： 14-19  発行年： 2013年10月 
JST資料番号： W0498A  ISSN： 0925-9635  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本研究では,単結晶ダイヤモンド基板の要求に合う新規超精密研磨法を紫外線(UV)照射を利用して開発した。この研磨は基本的にはUV誘起光化学反応と組合せたメカノ化学研磨(MCP)法である。ダイヤモンドの最上面の炭素原子は局在化した高温のヒドロキシルラジカル(OHラジカル)や酸素ラジカルなどの活性種によって酸化され,最終的にはCO及びCO₂として除去される。この研磨過程をダイヤモンド基板,化学蒸着(CVD)ダイヤモンド被覆膜及び多結晶ダイヤモンド(PCP)に適用した。結果は全基板の表面粗さは比較的高い除去速度で1~3h以内に0.2nmRaに達することを示した。UV研磨の特徴と除去機構もさらに論議した。Copyright 2013 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *ダイヤモンド ,  *単結晶 ,  多結晶 ,  *基板 ,  蒸着膜 ,  化学蒸着 ,  精密研削 ,  紫外線照射 ,  併用効果 ,  メカノ化学 ,  *光化学反応 ,  炭素 ,  ラジカル ,  酸化 ,  除去 ,  *表面粗さ ,  機構
準シソーラス用語： *紫外線照射精密研磨

分類 (2件)： 炭素とその化合物  (YB02060D) ,  電気化学反応  (CB07050F)

タイトルに関連する用語 (3件)： ダイヤモンド ,  紫外線照射 ,  精密研磨