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J-GLOBAL ID：201302203309648679   整理番号：13A0549888

N₂/H₂グロー放電を受けたポリスチレンの低エネルギーイオン散乱及びX線光電子分光法の補完的な特性評価

Complementary low energy ion scattering and X-ray photoelectron spectroscopy characterization of polystyrene submitted to N₂/H₂ glow discharge

著者 (7件)： BONATTO F. (Instituto de Fisica, Universidade Federal do Rio Grande do Sul, Porto Alegre, Rio Grande do Sul 91509-900, BRA) ,  ROVANI S. (Universidade de Caxias do Sul, Caxias do Sul, Rio Grande do Sul 95070-560, BRA) ,  KAUFMANN I.r. (Instituto de Fisica, Universidade Federal do Rio Grande do Sul, Porto Alegre, Rio Grande do Sul 91509-900, BRA) ,  SOARES G.v. (Instituto de Fisica, Universidade Federal do Rio Grande do Sul, Porto Alegre, Rio Grande do Sul 91509-900, BRA) ,  BAUMVOL I.j.r. (Instituto de Fisica, Universidade Federal do Rio Grande do Sul, Porto Alegre, Rio Grande do Sul 91509-900, BRA) ,  BAUMVOL I.j.r. (Universidade de Caxias do Sul, Caxias do Sul, Rio Grande do Sul 95070-560, BRA) ,  KRUG C. (Instituto de Fisica, Universidade Federal do Rio Grande do Sul, Porto Alegre, Rio Grande do Sul 91509-900, BRA)
資料名： Nuclear Instruments & Methods in Physics Research. Section B. Beam Interactions with Materials and Atoms  (Nuclear Instruments & Methods in Physics Research. Section B. Beam Interactions with Materials and Atoms)
巻： 273  ページ： 189-191  発行年： 2012年02月15日 
JST資料番号： H0899A  ISSN： 0168-583X  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

シソーラス用語： *ポリスチレン ,  窒素 ,  水素 ,  *グロー放電 ,  *X線光電子スペクトル ,  X線光電子分光法 ,  化学組成 ,  化学結合 ,  *コロナ放電 ,  プラズマ処理 ,  イオン散乱分光法 ,  表面分析 ,  細胞接着
準シソーラス用語： 元素組成 ,  *細菌接着 ,  *低エネルギーイオン散乱分光法

分類 (2件)： その他の物理分析  (CC03014E) ,  有機化合物の物理分析  (CC03034A)

タイトルに関連する用語 (8件)： N2 ,  H2 ,  グロー放電 ,  ポリスチレン ,  低エネルギーイオン散乱 ,  X線光電子分光法 ,  補完 ,  特性評価