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J-GLOBAL ID：201302203355567349   整理番号：13A0823177

EBACおよびナノプロービングを用いた鎖抵抗欠陥による28nmの精密な局所化

Precise localization of 28 nm via chain resistive defect using EBAC and nanoprobing

著者 (5件)： LARRE P. (STMicroelectronics, Crolles, FRA) ,  TUPIN H. (STMicroelectronics, Crolles, FRA) ,  CHARLES C. (STMicroelectronics, Crolles, FRA) ,  NEWTON R.H. (DCG Systems, Texas) ,  REVERDY A. (Sector Technol., Gieres, FRA)
資料名： Conference Proceedings from the International Symposium for Testing and Failure Analysis  (Conference Proceedings from the International Symposium for Testing and Failure Analysis)
巻： 38th  ページ： 67-70  発行年： 2012年 
JST資料番号： D0658B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

シソーラス用語： *画像処理 ,  *マイクロプローブ ,  *欠陥検査
準シソーラス用語： EBAC ,  ナノプローブ ,  局所化 ,  電子ビーム吸収電流画像処理

分類 (2件)： 非破壊試験  (HB02030F) ,  図形・画像処理一般  (JE04010I)

タイトルに関連する用語 (2件)： 欠陥 ,  局所化