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J-GLOBAL ID：201302203547767821   整理番号：12A1809969

ゾル-ゲル法により成長した光学設計ベースの多層反射防止コーティングの個々の層のキャラクタリゼーション

Characterization of individual layers of an optical design based multilayered antireflection coating developed by sol-gel method

著者 (5件)： GHOSH S. S. (CSIR-Central Glass and Ceramic Res. Inst., Sol-Gel Div., 196 Raja S.C. Mullick Road, 700 032, Kolkata, IND) ,  DAS S. (CSIR-Central Glass and Ceramic Res. Inst., Sol-Gel Div., 196 Raja S.C. Mullick Road, 700 032, Kolkata, IND) ,  DAS S. (CSIR-CGCRI, Fiber Optics and Photonics Div., Kolkata, IND) ,  SIL A. (Indian Inst. of Technol. Roorkee, Dep. of Metallurgical and Materials Engineering, 247667, Roorkee, Uttarakhand, IND) ,  BISWAS P. K. (CSIR-Central Glass and Ceramic Res. Inst., Sol-Gel Div., 196 Raja S.C. Mullick Road, 700 032, Kolkata, IND)
資料名： Journal of Sol-Gel Science and Technology  (Journal of Sol-Gel Science and Technology)
巻： 64  号： 3  ページ： 534-542  発行年： 2012年12月 
JST資料番号： W0812A  ISSN： 0928-0707  CODEN： JSGTEC  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 多層非1/4波長(設計波長λ₀=908nm)をベースにした反射防止コーティング(ARC)をゾル-ゲル法により成長させた。屈折率が1.15~1.65の間の範囲の材料による3層ARC設計のシミュレーションを特定の厚さと屈折率の堆積の実験的な処理を実現させるために行った。コロイダルゾルベースのシリカ,ポリマーゾルベースのシリカおよびジルコニアベースの複合溶液をAR層の製造のために使用した。個々の層及びARCの微細構造の研究をFESEM,EDX,AFM,及びXRDを使用して行った。ジルコニア,コロイダルシリカ及び高分子シリカ層を連続して堆積することにより表面粗さは徐々に減少した。合成したARCの光学性能(λ₀で0.67%)は理論的な設計値(λ₀で0.63%)に近かった。Copyright 2012 Springer Science+Business Media New York Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： 基板 ,  ガラス ,  *酸化ジルコニウム ,  *セラミック被覆 ,  *反射防止膜 ,  *ゾル-ゲル法 ,  ケイ素化合物 ,  アルコラート ,  ゾル ,  超微粒子 ,  浸漬塗装 ,  *屈折率 ,  *膜厚 ,  被覆 ,  キャラクタリゼーション ,  微細構造 ,  *表面粗さ ,  *反射率 ,  脂肪族アルコール ,  無機酸エステル ,  *二酸化ケイ素
準シソーラス用語： *シリカ ,  ARC【反射】 ,  コロイドシリカ ,  シリカゾル ,  ジルコニア ,  ディップコーティング ,  多層被覆

分類 (3件)： 非金属材料へのセラミック被覆  (YC02040K) ,  酸化物薄膜  (BK14050P) ,  光物性一般  (BM08010A)

物質索引 (1件)： TEOS

タイトルに関連する用語 (7件)： ゾル-ゲル法 ,  成長 ,  光学設計 ,  多層 ,  反射防止コーティング ,  層 ,  キャラクタリゼーション