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J-GLOBAL ID：201302204975941352   整理番号：13A0308433

反応性dcマグネトロンスパッタリングで作製した可視光光触媒活性なWO₃薄膜の構造と光学的性質

Structural and optical properties of visible active photocatalytic WO₃ thin films prepared by reactive dc magnetron sputtering

著者 (3件)： JOHANSSON Malin B. (Uppsala Univ., Uppsala, SWE) ,  NIKLASSON Gunnar A. (Uppsala Univ., Uppsala, SWE) ,  OESTERLUND Lars (Uppsala Univ., Uppsala, SWE)
資料名： Journal of Materials Research  (Journal of Materials Research)
巻： 27  号： 24  ページ： 3130-3140  発行年： 2012年12月28日 
JST資料番号： D0987B  ISSN： 0884-2914  CODEN： JMREEE  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 反応性dcマグネトロンスパッタリングで作製したWO₃薄膜の構造,光学的性質及び光触媒活性を調べた。Wターゲットを用い,P_tot=1.3~4.0Pa,基板温度553Kで製膜し,SEM,X線回折,Rutherford後方散乱分光で特性評価した。SEM観察から,低圧では30~60nmの角形構造が生成し,高圧では丸い構造に変化した。ラザフォード後方散乱分光から気孔率は8~11%で膜は比較的ち密であった。X線回折からε相とδ相WO₃が主であった。UV-可視分光から光学的バンドギャップは2.78eVであった。ステアリン酸の光触媒分解から,P_tot=4Paで作製したナノWO₃膜の光触媒分解速度はP_tot=1.3Paの2倍であった。

シソーラス用語： *酸化タングステン ,  *蒸着膜 ,  *光触媒 ,  *触媒活性 ,  可視光 ,  *マグネトロンスパッタリング ,  反応性スパッタリング ,  *スパッタ蒸着 ,  フッ化カルシウム ,  光学ギャップ ,  光触媒反応 ,  接触分解 ,  速度 ,  脂肪酸
準シソーラス用語： *光触媒活性 ,  光触媒分解 ,  *反応性マグネトロンスパッタリング ,  分解速度

分類 (2件)： 光化学一般  (CB08010U) ,  酸化物薄膜  (BK14050P)

物質索引 (1件)： ステアリン酸

タイトルに関連する用語 (7件)： 反応性 ,  DCマグネトロンスパッタリング ,  作製 ,  可視光 ,  光触媒活性 ,  薄膜 ,  光学的性質