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J-GLOBAL ID:201302210340606603   整理番号:13A0584261

水熱法によって作った銅でドープしたバナジウム酸ビスマス(BiVO_4)光触媒の調製と光触媒活性

Preparation and Photocatalytic Activity of Cu-doped BiVO_4 Photocatalysts Fabricated by Hydrothermal Method
著者 (5件):
資料名:
巻: 27  号:ページ: 19-25  発行年: 2012年 
JST資料番号: C2432A  ISSN: 1000-324X  CODEN: WCXUET  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 中国 (CHN)  言語: 中国語 (ZH)
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Cu-BiVO4光触媒を,原料としてBi(NO_3)_3.5H_2O,NH_4VO_3,およびCu(NO_3)_2.3H_2Oを使用して水熱法によって調製した。サンプルを,X線回折(XRD),走査電子顕微鏡(SEM),X線光電子スペクトロスコープ(XPS),およびUV-Vis拡散反射スペクトル(UV-Vis)によって特性評価した。結果は,pH値を増加することによって,高結晶質単斜シーライト構造のCu-BiVO_4が得られ,BiVO_4の結晶構造はCuドーパントを増加しても変動しないことを示した。XPS結果は,ドープしたCu種がCuOとCu_2Oの形で存在することを明らかにした。Cu-BiVO_4触媒は可視光域の吸収バンドで顕著なレッドシフトを持っており,複合触媒では,純粋なBiVO_4と比較して,吸収強度が大いに増加する。Cu-BiVO_4光触媒は,可視光照射下でのメチレンブルー(MB)の分解の光触媒活性を増大する。pH値が5.0で,Cuドーパントが1.0wt%のときに,光触媒活性が最大値に達する。60分間の可視光照射後に,Cu-BiVO_4(1.0wt%Cu)によるMBの除去率は初期濃度10mg/Lにおいて97.8%に増加するが,純粋なBiVO_4によるMBの除去率は54.7%にすぎない。また,増加した光触媒活性の機構も論じた。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST
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