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J-GLOBAL ID:201302213181978412   整理番号:13A1895964

スパッター蒸着したFe-Si-O非晶質薄膜から熱アニーリングで析出したε-Fe2O3のマイクロ波吸収

Microwave absorption of ε-Fe2O3 precipitated from sputter deposited Fe-Si-O amorphous thin film by thermal annealing
著者 (5件):
資料名:
巻: 115  ページ: 198-200  発行年: 2014年01月15日 
JST資料番号: E0935A  ISSN: 0167-577X  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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rf-スパッター蒸着したFe-Si-O非晶質膜を熱アニーリングして粒状磁性薄膜を作成した。析出したFe2O3の粒子サイズを制御して,目標化学組成がSiO2/Fe2O3=2の原子比になるように調整し,900°Cで1から3時間のアニーリングを行って純粋なε相を得た。100分間アニールした膜に対しては,殆ど対称的な強磁性共鳴信号が観察され,非晶質シリカマトリックス中に残留第二鉄イオンの存在する証拠は無かった。Copyright 2013 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.
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分類 (1件):
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酸化物薄膜 

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