抄録/ポイント:
抄録/ポイント
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ゲル粒子を用いた部分めっき法を開発したが,めっき膜表面にピンホールが多数観察された。本研究では,新たに塩化スズにチオ尿素および酒石酸を加えた溶液をめっき浴としたゲル粒子めっきを試みた。ゲル化剤にはアルギン酸ナトリウムを用い,濃度を変化させながら上記溶液に滴下した。アルギン酸ナトリウム濃度が高くなるにつれて粒子の形が球形に近づき,3.0wt%のとき,ほぼ球形のゲル粒子を調製することができた。このゲル粒子を用いて置換めっきを行った。めっき時間30min以降,急速に皮膜が成長し,その後,めっきが完了する120minでは膜厚は約800nmとなりS字型の成長曲線を示した。めっき膜をより厚くすることによって,ピンホールの少ない置換スズめっきを行うことが可能となった。