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J-GLOBAL ID：201302213973974570   整理番号：13A1918754

シリカ上の均質,多孔質,アモルファスTa₂O₅コーティング:温度の影響

Optical properties of uniform, porous, amorphous Ta₂O₅ coatings on silica: temperature effects

著者 (11件)： ANGHINOLFI L (Universita di Genova, Genova, ITA) ,  PRATO M (Istituto Nazionale di Fisica Nucleare (INFN), Genova, ITA) ,  CHTANOV A (Commonwealth Scientific and Industrial Res. Organization (CSIRO), NSW, AUS) ,  GROSS M (Commonwealth Scientific and Industrial Res. Organization (CSIRO), NSW, AUS) ,  CHINCARINI A (Istituto Nazionale di Fisica Nucleare (INFN), Genova, ITA) ,  NERI M (Universita di Genova, Genova, ITA) ,  NERI M (Istituto Nazionale di Fisica Nucleare (INFN), Genova, ITA) ,  GEMME G (Istituto Nazionale di Fisica Nucleare (INFN), Genova, ITA) ,  CANEPA M (Universita di Genova, Genova, ITA) ,  CANEPA M (Istituto Nazionale di Fisica Nucleare (INFN), Genova, ITA) ,  CANEPA M (Consorzio Interuniversitario per le Scienze Fisiche della Materia (CNISM), Genova, ITA)
資料名： Journal of Physics. D. Applied Physics  (Journal of Physics. D. Applied Physics)
巻： 46  号： 45  ページ： 455301,1-7  発行年： 2013年11月13日 
JST資料番号： B0092B  ISSN： 0022-3727  CODEN： JPAPBE  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 高k誘電体を用いた薄膜は,エレクトロニクスやコーティング技術などの多くの科学技術分野において重要である。なかでもTa₂O₅は,耐腐食被覆材料,絶縁膜,センサ,反射防止膜などの多くの応用が考えられる有望な材料物質である。本研究では,分光偏光解析法により,高品質なシリカ基板上にイオンスパッタリングにより作製したTa₂O₅コーティングの光学的性質を,膜内の歪みなどの機械的な性質との相関に焦点をあてて調べた。補完的な光学情報を得るために,光熱干渉法を用いて,赤外域での光学吸収に対する情報も調べた。得られたデータをいくつかの理論モデルで解析し,Cody-Lorentzモデルが最も良く実験データを再現することを示した。試料の光学特性に与える熱処理効果についても論じた。

シソーラス用語： *酸化タンタル ,  *被覆 ,  誘電体 ,  誘電体薄膜 ,  偏光解析法 ,  イオンビームスパッタリング ,  *光学的性質 ,  二酸化ケイ素
準シソーラス用語： シリカ ,  高k誘電体 ,  分光偏光解析 ,  イオンスパッタリング

分類 (1件)： 無機化合物の可視・紫外スペクトル  (BM08084P)

タイトルに関連する用語 (5件)： シリカ ,  多孔質 ,  アモルファス ,  Ta2O5 ,  コーティング