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J-GLOBAL ID：201302216342218919   整理番号：13A1300972

反応性スパッタリングされたBCN薄膜の光学的特性に及ぼすアニーリングの影響

Influence of annealing on the optical properties of reactively sputtered BCN thin films

著者 (3件)： TODI Vinit O. ,  SHANTHEYANDA Bojanna P. ,  SUNDARAM Kalpathy B.
資料名： Materials Chemistry and Physics  (Materials Chemistry and Physics)
巻： 141  号： 2-3  ページ： 596-601  発行年： 2013年09月16日 
JST資料番号： E0934A  ISSN： 0254-0584  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： B₄Cターゲットを用いてマルチガン高周波(rf)マグネトロンスパッタリング系で析出された放射窒化ホウ素炭素(BCN)薄膜の光学的特性を検討した。種々の化学組成の膜を,スパッタリング環境のアルゴンと窒素の比率を変化させて析出させた。膜を,300°C~700°Cの温度範囲の乾燥酸素環境でアニーリングした。膜の光学的特性に及ぼす影響を調べた。膜の光透過は,窒素の取込で増加することが分かった。より高い温度でのアニーリングにより,光透過がかなり増加した。吸収データから計算された光エネルギーギャップ(Tauc gap)は,アニーリング温度による影響を受けた。X線光電子分光法(XPS)によるアニーリングに起因した光学的特性の変化は,膜の化学修飾と相関した。研究から,膜の炭素および窒素濃度は温度に対して高感度であることが分かった。より高い温度でのアニーリングにより,C-N結合が開裂し,膜中のCおよびNの損失となった。これが,膜の光学的特性の変化の主要な要因であると考えられた。Copyright 2013 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *ホウ素化合物 ,  *炭素化合物 ,  *窒化物 ,  誘電体薄膜 ,  反応性スパッタリング ,  スパッタ蒸着 ,  マグネトロンスパッタリング ,  アルゴン ,  窒素 ,  酸素 ,  *焼なまし ,  *光学的性質 ,  X線光電子スペクトル ,  透過率 ,  光透過 ,  濃度依存性 ,  吸収係数 ,  光学ギャップ ,  温度依存性 ,  化学修飾 ,  光透過率 ,  *窒化ホウ素炭素
準シソーラス用語： *アニーリング ,  光学バンドギャップ ,  *光学的特性 ,  高周波マグネトロンスパッタリング

分類 (5件)： 誘電体一般  (BM05010F) ,  塩  (CD01050V) ,  その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A) ,  無機化合物のルミネセンス  (BM08093J) ,  一般及び無機化合物の蛍光・りん光(分子)  (BH06061R)

タイトルに関連する用語 (4件)： 反応性スパッタリング ,  薄膜 ,  光学的特性 ,  アニーリング