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J-GLOBAL ID：201302216554891591   整理番号：13A0236094

ゾル-ゲル法によるSnO₂ナノ粒子のサイズ制御合成

Size-controlled synthesis of SnO₂ nanoparticles by sol-gel method

著者 (3件)： AZIZ Madzlan (Chemistry Dep., Fac. of Sci., Universiti Teknologi Malaysia, 81310 UTM Skudai, Johor, Malaysia) ,  SABER ABBAS Saad (Chemistry Dep., Fac. of Sci., Universiti Teknologi Malaysia, 81310 UTM Skudai, Johor, Malaysia) ,  WAN BAHAROM Wan Rosemaria (Chemistry Dep., Fac. of Sci., Universiti Teknologi Malaysia, 81310 UTM Skudai, Johor, Malaysia)
資料名： Materials Letters  (Materials Letters)
巻： 91  ページ： 31-34  発行年： 2013年01月15日 
JST資料番号： E0935A  ISSN： 0167-577X  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 正方晶相SnO₂ナノ粒子をゾル-ゲル法でSnCl₂・2H₂Oとポリエチレングリコール(PEG)を用いて異なるか焼温度で合成した。得られた生成物の相,大きさ及び純度をX線回折で特性評価した。形態を電界放出走査型電子顕微鏡分析により確認した。温度,PEG分子量及び粒径との間には関係が存在した。PEG分子量の増加と温度の減少により粒径は減少した。結果から,か焼温度とPEG分子量は本法で合成したSnO₂ナノ粒子の大きさを決定する上で重要な役割を果たした。Copyright 2013 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *酸化スズ ,  *ナノ粒子 ,  *制御 ,  *ゾル-ゲル法 ,  塩化スズ ,  ポリエチレンオキシド ,  か焼 ,  正方晶系 ,  相組成 ,  純度 ,  温度依存性 ,  温度 ,  分子量 ,  半導体 ,  粒径 ,  か焼温度 ,  *粒径制御

分類 (1件)： セラミック・陶磁器の製造  (YC03020V)

タイトルに関連する用語 (4件)： ゾル-ゲル法 ,  SnO2 ,  ナノ粒子 ,  サイズ制御