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J-GLOBAL ID：201302217510985951   整理番号：13A0021188

Siナノ構造薄膜の作製とその光学特性

著者 (3件)： 安達定雄 (群馬大 大学院工学研究科) ,  宮崎卓幸 (群馬大 大学院工学研究科) ,  中村俊博 (群馬大 大学院工学研究科)
資料名： 群馬大学アドバンスト・テクノロジー高度研究センター年報  (Annual Report of GU-ATEC)
号： 16  ページ： 10-11  発行年： 2012年11月 
JST資料番号： L6814A  資料種別： 年次報告 (Y)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： シリコン半導体やGaP,ZnOなどの化合物半導体からなるナノ構造の表面物性,あるいはバルク物性を調べ,その制御・評価技術を確立することを目的として,ここでは,シリコンナノワイヤ(NW)の作成を試みた。研究結果から,シリコンNW形成のための最適条件を決定し,さらに,蛍光特性やNWアレイ表面の撥水性についても調べた。また,フッ化物系蛍光体の作成,および,GaN粒子を含むランダムレーザを開発し,その光学的特性を調べた。

シソーラス用語： 半導体薄膜 ,  *ナノ構造 ,  *ケイ素 ,  *光学的性質 ,  ナノワイヤ ,  リン化ガリウム ,  酸化亜鉛 ,  化合物半導体 ,  レーザ ,  窒化ガリウム
準シソーラス用語： *半導体ナノ構造 ,  *シリコン ,  光学特性 ,  シリコンナノワイヤ ,  ランダムレーザ

分類 (1件)： 半導体薄膜  (BK14040E)

タイトルに関連する用語 (5件)： Si ,  ナノ構造 ,  薄膜 ,  作製 ,  光学特性