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J-GLOBAL ID：201302217778388506   整理番号：12A1811464

水蒸気プラズマ中の還元過程で制御されたTi薄膜の酸化に関する研究

Study of Oxidation of Thin Ti Film Controlled by Reduction Processes in Water Vapor Plasma

著者 (9件)： PRANEVICIUS Liudvikas (Dep. of Physics, Vytautas Magnus Univ., LTU) ,  URBONAVICIUS Marius (Dep. of Physics, Vytautas Magnus Univ., LTU) ,  PRANEVICIUS Liudas (Dep. of Physics, Vytautas Magnus Univ., LTU) ,  PRANEVICIUS Liudas (Center for Hydrogen Energy Technologies, Lithuanian Energy Inst., LTU) ,  TUCKUT Simona (Dep. of Physics, Vytautas Magnus Univ., LTU) ,  TUCKUT Simona (Center for Hydrogen Energy Technologies, Lithuanian Energy Inst., LTU) ,  GEDVILAS Karolis (Dep. of Physics, Vytautas Magnus Univ., LTU) ,  RAJACKAS Tomas (Dep. of Physics, Vytautas Magnus Univ., LTU) ,  GIRDZEVICIUS Dalius (Dep. of Physics, Vytautas Magnus Univ., LTU)
資料名： e-Journal of Surface Science and Nanotechnology (Web)  (e-Journal of Surface Science and Nanotechnology (Web))
巻： 10  ページ： 613-618 (J-STAGE)  発行年： 2012年 
JST資料番号： U0016A  ISSN： 1348-0391  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 微細構造,相組成および表面のモルフォロジーの変化を,200~700nmの厚みのTi膜で調べたが,この薄膜を,20~300Wの範囲のプラズマ処理出力の水蒸気プラズマにより,5~10Paのマグネトロンスパッタリング法を用いてSi基板上蒸着した。プラズマ処理されたTi膜の厚さ全域の酸素と水素原子の深さプロファイリング,表面高さのナノトポグラフィーおよび4点プローブ固有抵抗測定を,XRDおよびEDS法でそれぞれ記録された相および組成変化に対して相補的に行った。表面上の異なる還元/酸化状態を,プラズマ出力の連携調整で維持できることが分かった。疎水性酸化チタンへの吸着された水クラスタの強固な結合により,膜のクラッキングおよび「popping off」形式で自発的なリフティングが同時に起きる,TiO₂へのTiの迅速で完全な転換が観察された。実験成績の解析により,室温での水蒸気プラズマに暴露された還元酸化チタン上に吸着された水分子の挙動に関する重要な洞察が得られた。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *チタン ,  金属薄膜 ,  ケイ素 ,  基板 ,  *プラズマ ,  *水蒸気 ,  *マグネトロンスパッタリング ,  酸素 ,  水素 ,  *深さプロフィル ,  トポグラフィー【形態】 ,  X線回折 ,  エネルギー分散X線分光分析 ,  X線光電子スペクトル ,  光学顕微鏡 ,  電気抵抗率 ,  相転移 ,  変化 ,  組成 ,  酸化数 ,  電圧依存性 ,  疎水性 ,  *酸化チタン ,  水 ,  *クラスタ
準シソーラス用語： 固有抵抗 ,  酸化状態 ,  *深さプロファイリング ,  *水蒸気プラズマ ,  組成変化

分類 (6件)： プラズマ応用  (BJ02110K) ,  無機化合物一般及び元素  (CD01010D) ,  金属薄膜  (BK14030T) ,  酸化,還元  (CF02060T) ,  スパッタリング  (BK16110U) ,  原子・分子のクラスタ  (BH09030O)

タイトルに関連する用語 (6件)： 水蒸気プラズマ ,  還元 ,  過程 ,  Ti薄膜 ,  酸化 ,  研究