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J-GLOBAL ID：201302219301626130   整理番号：13A0811100

3次元トランジスターのためのトレンチドーピング過程-2次元断面ドーピングプロファイリング研究

Trench doping process for 3D transistors - 2D cross-sectional doping profiling study

著者 (4件)： QIN Shu (Micron Technol. Inc., ID, USA) ,  WANG Zhouguang (Micron Technol. Inc., ID, USA) ,  HU Y. Jeff (Micron Technol. Inc., ID, USA) ,  MCTEER Allen (Micron Technol. Inc., ID, USA)
資料名： AIP Conference Proceedings  (AIP Conference Proceedings)
巻： 1496  ページ： 75-78  発行年： 2012年 
JST資料番号： D0071C  ISSN： 0094-243X  資料種別： 会議録 (C)
発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

タイトルに関連する用語 (8件)： 3次元 ,  トランジスター ,  トレンチ ,  ドーピング ,  過程 ,  2次元 ,  プロファイリング ,  研究