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J-GLOBAL ID：201302219446288799   整理番号：13A0155813

スパッタリング時のガスの種類と圧力に対する非晶質TbFeCo膜の微細構造と磁気的性質の依存

Dependence of the microstructure and magnetic properties of amorphous TbFeCo films on the type and pressure of the gas in sputtering

著者 (3件)： KAMZIN A. S. (Russian Acad. of Sciences, Ioffe Physical-Technical Inst., Politekhnicheskaya ul. 26, 194021, St. Petersburg, RUS) ,  GANEEV V. R. (Kazan (Volga Region) Federal Univ., ul. Kremlyovskaya 18, 420008, Kazan, Tatarstan, RUS) ,  ZARIPOVA L. D. (Kazan (Volga Region) Federal Univ., ul. Kremlyovskaya 18, 420008, Kazan, Tatarstan, RUS)
資料名： Physics of the Solid State  (Physics of the Solid State)
巻： 54  号： 12  ページ： 2395-2399  発行年： 2012年12月 
JST資料番号： W0823A  ISSN： 1063-7834  CODEN： PSOSED  資料種別： 逐次刊行物 (A)
発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

タイトルに関連する用語 (4件)： スパッタリング ,  非晶質 ,  微細構造 ,  磁気的性質