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J-GLOBAL ID：201302220964844334   整理番号：13A1142570

ガチフロキサシンに関するパルス放射線分解研究--フルオロキノロン系抗菌剤

Pulse radiolysis study on gatifloxacin--A fluoroquinolone antibiotic

著者 (7件)： Li Haixia (Shanghai Inst. of Applied Physics,Chinese Acad. of Sciences, Shanghai) ,  Liu Yancheng (Shanghai Inst. of Applied Physics,Chinese Acad. of Sciences, Shanghai) ,  Tang Ruizhi (Shanghai Inst. of Applied Physics,Chinese Acad. of Sciences, Shanghai) ,  Zhang Peng (Shanghai Inst. of Applied Physics,Chinese Acad. of Sciences, Shanghai) ,  Fu Haiying (Shanghai Inst. of Applied Physics,Chinese Acad. of Sciences, Shanghai) ,  Yao Side (Shanghai Inst. of Applied Physics,Chinese Acad. of Sciences, Shanghai) ,  Wang Wenfeng (Shanghai Inst. of Applied Physics,Chinese Acad. of Sciences, Shanghai)
資料名： Science China. Chemistry  (Science China. Chemistry)
巻： 55  号： 7  ページ： 1358-1363  発行年： 2012年 
JST資料番号： C2575A  ISSN： 1674-7291  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： OH,N_3,Br_2,およびSO_4などのガチフロキサシン(GFX)と様々の一電子酸化剤の間の反応を,パルス放射線分解方法によって研究した。e_(aq)と(GFX)の反応で形成したGFXラジカルアニオンは,プロトン化,または脱プロトン化した,そして,GFXラジカルアニオンの吸収は390nmに位置した。OHラジカルとGFXの反応で生成した遷移種は,肩を有する380-600nmの領域に広帯域を示すが,N_3,SO_4,およびBr_2による酸化はλmax=370nmの吸収帯をもたらす。中性条件(pH7)では,OH,N_3,Br_2,SO_4およびeaqと反応するGFXの速度定数は,それぞれ1.0×1010,3.1×109,2.8×109,3.0×109,および1.8×1010dm3mol(-1)s(-1)であると推測される。電子付加化合物の生成におけるpH依存性とeaqとGFXの速度定数から,GFXラジカルアニオンのpKaは5.5と9.3であると推測される。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST

シソーラス用語： *パルス放射線分解 ,  ニューキノロン系抗細菌薬 ,  アニオン ,  脱プロトン ,  アニオンラジカル ,  定数 ,  pH依存性
準シソーラス用語： フルオロキノロン系抗菌薬 ,  脱プロトン化 ,  ラジカルアニオン ,  速度定数

分類 (1件)： 放射線化学反応  (CB09020M)

物質索引 (1件)： ガチフロキサシン

タイトルに関連する用語 (5件)： ガチフロキサシン ,  パルス放射線分解 ,  研究 ,  フルオロキノロン ,  抗菌剤