接地電極への電子ビーム注入による極低エネルギーイオンビームの放射状発散の抑制

HIRANO Yoichi; KIYAMA Satoru; SAKAKITA Hajime; KOGUCHI Haruhisa; SHIMADA Toshio; SATO Yasuhiro

文献

J-GLOBAL ID：201302223494191427 整理番号：13A1172242

接地電極への電子ビーム注入による極低エネルギーイオンビームの放射状発散の抑制

Suppression of Radial Divergence of Extremely Low Energy Ion Beam by an Electron Beam Injection to a Grounded Electrode

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著者 (6件)： , , , , ,
資料名：
巻： 52 号： 6,Issue 1 ページ： 066001.1-066001.6 発行年： 2013年06月25日
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 CODEN： JJAPB6 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：イギリス (GBR) 言語：英語 (EN)

凹面形電極を用いて,イオン源から抽出された水素イオンビームに,高集束状態への遷移が,観察される。そのビームは,直径~60mmで,低いエネルギー(~95eV)及び高電流(~60mA)である。その遷移は,イオンビーム速度に斜め反対方向からイオン源の接地電極への電子ビーム入射(1keV及び最高50mA)によって誘起される。おそらく,電極から放出された二次電子は,取り出し直後にイオンビームのコア領域で生産されるので,ビームイオン空間電荷を取り消すのに効果的役割を果たす。電子ビームのある場合と,電子ビームなしの場合の比較は,ターゲットに達する全イオンビーム電流だけでなく,イオンビームの集束においても大きな改善があることを示している。低電子ビーム流(~9mA)によって始動されるこの高集束状態への突然の遷移は,ある種の非線過程が,この集束に本質的な役割を果たすことを示唆している。(翻訳著者抄録)

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電子ビーム,イオンビーム

引用文献 (33件)：

1) S. Xu, B. K. Tay, H. S. Tan, L. Zhong, Y. Q. Tu, S. R. P. Silva, and W. I. Milne: J. Appl. Phys. 79 (1996) 7234.
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