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J-GLOBAL ID：201302223815625530   整理番号：13A0495359

太陽電池の吸収増強のためのナノインプリント背面回折格子

Nano-imprinted rear-side diffraction gratings for absorption enhancement in solar cells

著者 (8件)： MELLOR Alexander (Universidad Politecnica de Madrid, Madrid, ESP) ,  HAUSER Hubert (Fraunhofer Inst. Solar Energy Systems, Freiburg, DEU) ,  GUTTOWSKI Aron (Fraunhofer Inst. Solar Energy Systems, Freiburg, DEU) ,  WELLENS Christine (Fraunhofer Inst. Solar Energy Systems, Freiburg, DEU) ,  BLAESI Benedikt (Fraunhofer Inst. Solar Energy Systems, Freiburg, DEU) ,  TOBIAS Ignacio (Universidad Politecnica de Madrid, Madrid, ESP) ,  MARTI Antonio (Universidad Politecnica de Madrid, Madrid, ESP) ,  LUQUE Antonio (Universidad Politecnica de Madrid, Madrid, ESP)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 8469,8471  ページ： 84710O.1-84710O.7  発行年： 2012年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 太陽電池の厚さが薄くなるのにしたがって,光子吸収増強のためのウエハ表面の光トラップ組織化技術が重要になってきている。そこで,本研究では,干渉リソグラフィーを主要な技術として使ったナノインプリントリソグラフィーにより,波長スケールの回折格子表面組織を持つ結晶シリコンウエハを作製し,その光学特性を調べた。背面にナノインプリントされた回折格子状の表面組織を持つシリコンウエハは,シリコンにおいて吸収が弱い波長領域において吸収係数が著しく増大した。また,二重交差回折格子は,単一周期線形回折格子よりも優れた性能を発揮することを実験的に示した。実験で調べた表面構造について,全吸収を背面反射器におけるシリコン内の吸収とそれ以外の寄生的な吸収とに分解し,光学シミュレーション計算を行った。その結果,ナノ表面組織を用いた太陽電池では,シリコン内で光電流密度が増大することがわかった。さらに,不動態化層蒸着技術により背面反射器を平坦化することで寄生吸収を減らせることを示した。この技術は高スループットで大面積上に精巧にテーラー加工されたナノ構造を実現できる可能性を持っていることを指摘した。

シソーラス用語： *太陽電池 ,  リソグラフィー ,  *回折格子 ,  *光吸収 ,  光トラッピング ,  吸収係数
準シソーラス用語： ナノインプリントリソグラフィー ,  光吸収係数

分類 (1件)： 太陽電池  (NC03084O)

タイトルに関連する用語 (5件)： 太陽電池 ,  増強 ,  ナノインプリント ,  背面 ,  回折格子