文献
J-GLOBAL ID:201302224077998241   整理番号:12A1798784

各種ゲート絶縁体を有する非晶質In-Ga-Zn-O金属-酸化物-半導体ダイオードにおける電子構造に対するH及びOHの脱着と拡散の効果

Effect of H and OH desorption and diffusion on electronic structure in amorphous In-Ga-Zn-O metal-oxide-semiconductor diodes with various gate insulators
著者 (6件):
資料名:
巻: 112  号: 11  ページ: 114515-114515-7  発行年: 2012年12月01日 
JST資料番号: C0266A  ISSN: 0021-8979  CODEN: JAPIAU  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
抄録/ポイント:
抄録/ポイント
文献の概要を数百字程度の日本語でまとめたものです。
部分表示の続きは、JDreamⅢ(有料)でご覧頂けます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
標題のMOSダイオードについて容量電圧特性及び等温容量過渡分光(ICTS)測定を行い,非晶質In-Ga-Zn-O(a-IGZO)膜におけるH及びOHの脱着と拡散が電子構造に及ぼす効果を評価した。空間電荷(SC)の分布と密度はゲート絶縁体(GI)の性質に依存する。熱成長SiO2のGIではSCがa-IGZOとGIの界面付近に見られる。アニール後に膜の深部のSC密度は減少するが,界面では変わらない。ICTSスペクトルは二つの幅広いピークから成る。アニール後には,界面及びバルクでそれぞれ一つのピークとなる。トラップ密度は界面付近で高い。一方,化学蒸着(CVD)GIでは,SC密度がMOSの全バルク領域で高い。CVD-GIのMOSダイオードのICTSから,連続分布トラップ状態の存在が分かった。これは伝導帯下方の高密度テール状態の形成を示唆する。SIMS分析によれば,CVD-GI試料でH及びOHの脱着と外方拡散が見られる。これによりa-IGZO膜の構造が揺らぎ,テール状態が生じる。MOSダイオードと同じゲート構造のTFTを作製し,その性能と電子構造の相関を調べた。CVD-GIのTFTは飽和移動度が低下する。これはa-IGZOの電子構造がGI特性とともにプロセス条件に影響されることを示す。高性能電子素子を得るには膜密度や水素含有量などのGI特性の制御が重要と結論する。(翻訳著者抄録)
シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。

分類 (2件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
金属-絶縁体-半導体構造  ,  非晶質の電子構造一般 

前のページに戻る