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J-GLOBAL ID：201302224501654418   整理番号：13A1263035

干渉エリプソメータの測定精度に及ぼす非偏光ビームスプリッタの影響

Influence of nonpolarizing beam splitters on measurement accuracy in interferometric ellipsometers

著者 (4件)： Deng Yuanlong (Coll. of Mechatronics & Control Engineering, Shenzhen Univ.,Shenzhen Key Lab. of Sensor Technol., Shenzhen) ,  Li Xuejin (Shenzhen Key Lab. of Sensor Technol., Shenzhen) ,  Geng Youfu (Shenzhen Key Lab. of Sensor Technol., Shenzhen) ,  Hong Xueming (Shenzhen Key Lab. of Sensor Technol., Shenzhen)
資料名： Guangxue Jingmi Gongcheng  (Guangxue Jingmi Gongcheng)
巻： 20  号： 11  ページ： 2373-2379  発行年： 2012年 
JST資料番号： C2090A  ISSN： 1004-924X  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： ナノメートル精度で薄膜の厚みを測定するために,新しいヘテロダイン干渉エリプソメータを研究した。非偏光ビームスプリッタ(NPBS)の偏光解消効果を評価した。偏光ビームのp成分とs成分の間の透過誘起リターダンス(TIR),反射率比率,透過率比率および反射誘起リターダンス(RIR)を利用した。これにより,対応する誤差モデルを確立した。エリプソメータパラメータの誤差に及ぼす偏光解消の効果や多層誘電体NPBSのミスオリエンテーションの影響を研究した。実験から,偏光状態の変化,入射角,環境温度に起因する偏光解消効果のゆらぎは,測定精度に影響することが分かった。それはキャリブレーションで除去できなかった。ナノメートル精度を実現するためには,ミスオリエンテーション角度を0.1°以下にしなければならなかった。さらに,測定光と参照光の再結合でのNPBS配向の角度誤差は,測定精度に大きく影響することを示した。NPBSで誘導される薄膜の厚みの測定誤差は1.8~2.5nmであり,NPBSがMach-Zehnder干渉エリプソメータでの誤差源であることを示した。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST

シソーラス用語： *ビームスプリッタ ,  キャリブレーション ,  *エリプソメータ ,  光子ビーム ,  リターダ ,  偏光解消 ,  測定精度 ,  測定誤差 ,  光干渉 ,  偏光子 ,  偏光 ,  ナノ構造 ,  厚み測定
準シソーラス用語： *偏光ビームスプリッタ

分類 (1件)： 偏光測定と偏光計  (BD07050K)

タイトルに関連する用語 (4件)： 干渉 ,  エリプソメータ ,  測定精度 ,  偏光ビームスプリッタ