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J-GLOBAL ID：201302225060711948   整理番号：13A0228955

回転Zn:Alターゲットを用いたZnO:Alの工業サイズ反応性マグネトロンスパッタリング

Industrial Size Reactive Magnetron Sputtering of ZnO:Al Using Rotatable Zn:Al Target

著者 (1件)： LINSS V. (VON ARDENNE Anlagentechnik GmbH, Dresden, DEU)
資料名： Proceedings of the Annual Technical Conference. Society of Vacuum Coaters  (Proceedings of the Annual Technical Conference. Society of Vacuum Coaters)
巻： 55th  ページ： 514-518  発行年： 2012年 
JST資料番号： E0063B  ISSN： 0737-5921  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： Cu(In,Ga)S/Se₂(CIGS)ソーラモジュールの透明導電性酸化物(TCO)として,ZnO:Alの反応性マグネトロンスパッタリングがセラミック法に比べて低コストのため注目されている。長期間の安定性のためには,ターゲットのエロージョンが重要な課題である。本研究では,膜特性の長期安定性を制御するため,円筒型の回転AlドープZnターゲットを用い,膜特性の出力や圧力,ターゲット回転速度,エロージョンなどのプロセスパラメータへの依存性について検討した。ターゲットのエロージョンとプロセスパラメータ(出力,Ar流量,回転速度)は作用点の移動の原因となり,膜特性は簡単なパラメータ(デルタU)によって修正できた。

シソーラス用語： *太陽電池 ,  化合物半導体 ,  酸化物 ,  *酸化亜鉛 ,  ドーピング ,  アルミニウム ,  *マグネトロンスパッタリング ,  反応性スパッタリング ,  ターゲット ,  回転 ,  損傷 ,  摩耗 ,  安定性 ,  回転数 ,  圧力効果 ,  プロセスパラメータ ,  流量 ,  アルゴン ,  品質管理 ,  電気抵抗
準シソーラス用語： ソーラモジュール ,  透明導電性酸化物 ,  *反応性マグネトロンスパッタリング ,  エロージョン ,  長期安定性

分類 (2件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  電池一般  (YB04010O)

タイトルに関連する用語 (7件)： Zn ,  Al ,  ターゲット ,  ZnO ,  工業 ,  サイズ ,  反応性マグネトロンスパッタリング