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J-GLOBAL ID:201302225228037407   整理番号:13A0564250

WO3バルクおよび膜のガスクロミック特性に対するアニール処理効果の機構

Mechanism of Annealing Treatment Effect on the Gasochromic Properties of WO3 Bulks and Films
著者 (6件):
資料名:
巻: 537  ページ: 179-183  発行年: 2013年 
JST資料番号: D0744C  ISSN: 1013-9826  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: スイス (CHE)  言語: 英語 (EN)
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異なる温度でアニールしたPdCl2ドープWO3薄膜およびナノサイズのバルク試料に対するガスクロミック特性を比較し,熱処理の及ぼす影響を調べた。触媒としてPdCl2を添加したゾルを用いてディップコーティング法で作製した膜を50°C~450°Cでアニールした。バルク試料は,ゾルを3日間乾燥後PdCl2を滴下して作製した。試料はXRDにより評価すると共に,10%H2-N2暴露によるガスクロミック特性をUV-vis分光法により評価した。結果として,熱処理がガスクロミック特性に与える機構はH+の拡散速度に依存し,構造的水含有量の増大によりガスクロミック挙動が促進されることを見出した。
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分類 (2件):
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酸化物薄膜  ,  その他の光学的効果 
タイトルに関連する用語 (2件):
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