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J-GLOBAL ID:201302225870838340   整理番号:13A0098514

窒化ケイ素複合材料におけることなるカーボンナノ構造の分布パターン

Distribution Patterns of Different Carbon Nanostructures in Silicon Nitride Composites
著者 (3件):
資料名:
巻: 12  号: 11  ページ: 8775-8778  発行年: 2012年11月 
JST資料番号: W1351A  ISSN: 1533-4880  CODEN: JNNOAR  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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カーボンナノ構造強化Si3Ni4セラミック複合材料の異なる分布パターンを小角中性子散乱と走査電子顕微鏡観察にようって比較した。セラミック母材中でグラフェンがカーボンナノチューブよりもより効率的に分散していることが分かった。単層カーボンナノチューブの主要部分は多結晶母材の結晶粒を包み込むルースネットワークにおいて見出された。対照的に,多層カーボンナノチューブは主にバルク凝集構造の形で存在し,他方,数層グラフェンフレークは母材中に個別的に分散している。これらの知見は充填相の適切な分散が重要な作製条件であるような場合においてカーボンナノチューブの非常に有望な代替物であることを示している。
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分類 (2件):
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セラミック・陶磁器の製造  ,  炭素とその化合物 
タイトルに関連する用語 (5件):
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