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J-GLOBAL ID：201302226481649130   整理番号：13A0944654

無線周波数反応性磁電管スパッタリングによって堆積したAg_2O膜の分光偏光解析法研究

Spectroscopic ellipsometry study of the Ag_2O film deposited by radio-frequency reactive magnetron sputtering

著者 (6件)： Ma Jiaomin (Key Lab. of Materials Physics of Ministry of Education,School of Physics and Engineering,Zhengzhou Univ., Zhengzhou) ,  Liang Yan (Coll. of Information Sci. and Engineering,Henan Univ. of Technol., Zhengzhou) ,  Gao Xiaoyong (Key Lab. of Materials Physics of Ministry of Education,School of Physics and Engineering,Zhengzhou Univ., Zhengzhou) ,  Chen Chao (Key Lab. of Materials Physics of Ministry of Education,School of Physics and Engineering,Zhengzhou Univ., Zhengzhou) ,  Zhao Mengke (Key Lab. of Materials Physics of Ministry of Education,School of Physics and Engineering,Zhengzhou Univ., Zhengzhou) ,  Lu Jingxiao (Key Lab. of Materials Physics of Ministry of Education,School of Physics and Engineering,Zhengzhou Univ., Zhengzhou)
資料名： Wuli Xuebao  (Wuli Xuebao)
巻： 61  号： 5  ページ： 056106-1-056106-5  発行年： 2012年 
JST資料番号： B0628A  ISSN： 1000-3290  CODEN： WLHPA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： Ag_2O膜は高密度の視覚及び光磁気ディスクにおける潜在用途を持つ。本論文で,一連のAg_2O膜は,種々の基板温度,0.2Paの堆積圧,および2:3の酸素流量比での無線周波数反応性磁電管スパッタリングによって堆積する。膜の分光偏光解析分光を一般的振動子モデル(一つのTauc-Lorentz発振器と2つのLorentz発振器を含む)を用いて適合させる。1.5eVと3.5eVの間のエネルギー領域において,膜の屈折率及び消滅係数は,それぞれ2.2~2.7の間,0.3~0.9の間にある。膜は3.5eVと4.5eVのエネルギー領域における膜のプラズマ発振器周波数が,このエネルギー領域にある事を意味する明確な異常分散を示す。基板温度の増大に伴って,膜の吸収エッジの赤方偏移が発生する。それは,増大する格子歪の結果と考えることができる。膜の光学定数は明確に誘電性を示す。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST

シソーラス用語： スパッタリング ,  *偏光解析法 ,  周波数 ,  マグネトロン ,  光磁気ディスク ,  エネルギー領域 ,  基板温度 ,  異常分散 ,  赤方偏移 ,  流量 ,  光学定数
準シソーラス用語： *分光偏光解析法 ,  無線周波数 ,  磁電管 ,  酸素流量

分類 (1件)： 数理物理学  (BA03000W)

タイトルに関連する用語 (7件)： 無線周波数 ,  反応性 ,  磁電管 ,  スパッタリング ,  堆積 ,  分光偏光解析法 ,  研究