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J-GLOBAL ID：201302226891181755   整理番号：13A0360975

全数計数法を用いた二次イオン質量分析によるCu(In,Ga)Se₂薄膜の定量的分析

Quantitative analysis of Cu(In,Ga)Se₂ thin films by secondary ion mass spectrometry using a total number counting method

著者 (17件)： JANG Jong Shik (Korea Res. Inst. of Standards and Sci. (KRISS), Daejeon, KOR) ,  JANG Jong Shik (Chungbuk National Univ., Chungcheongbuk-do, KOR) ,  HWANG Hye Hyen (Korea Res. Inst. of Standards and Sci. (KRISS), Daejeon, KOR) ,  HWANG Hye Hyen (Univ. of Sci. and Technol. (UST), Daejeon, KOR) ,  KANG Hee Jae (Chungbuk National Univ., Chungcheongbuk-do, KOR) ,  SUH Jung Ki (Korea Res. Inst. of Standards and Sci. (KRISS), Daejeon, KOR) ,  MIN Hyung Sik (Korea Res. Inst. of Standards and Sci. (KRISS), Daejeon, KOR) ,  HAN Myung Sub (Korea Res. Inst. of Standards and Sci. (KRISS), Daejeon, KOR) ,  CHO Kyung Haeng (Korea Res. Inst. of Standards and Sci. (KRISS), Daejeon, KOR) ,  CHUNG Yong-Duck (Electronics and Telecommunications Res. Inst. (ETRI), Daejeon, KOR) ,  CHUNG Yong-Duck (Univ. of Sci. and Technol. (UST), Daejeon, KOR) ,  CHO Dae-Hyung (Electronics and Telecommunications Res. Inst. (ETRI), Daejeon, KOR) ,  CHO Dae-Hyung (Univ. of Sci. and Technol. (UST), Daejeon, KOR) ,  KIM Jeha (Electronics and Telecommunications Res. Inst. (ETRI), Daejeon, KOR) ,  KIM Jeha (Univ. of Sci. and Technol. (UST), Daejeon, KOR) ,  KIM Kyung Joong (Korea Res. Inst. of Standards and Sci. (KRISS), Daejeon, KOR) ,  KIM Kyung Joong (Univ. of Sci. and Technol. (UST), Daejeon, KOR)
資料名： Metrologia  (Metrologia)
巻： 49  号： 4  ページ： 522-529  発行年： 2012年08月 
JST資料番号： B0698A  ISSN： 0026-1394  CODEN： MTRGAU  資料種別： 逐次刊行物 (A)
発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

タイトルに関連する用語 (6件)： 計数法 ,  二次イオン質量分析 ,  Cu ,  Ga ,  薄膜 ,  定量的分析