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J-GLOBAL ID:201302226914289770   整理番号:13A1342666

種々の基板加熱温度によるAZO層の光電子および構造特性に及ぼすアルミニウムナノ構造の効果

Effect of aluminum-nano structures on the optoelectronic and structural properties of the AZO layer with various substrate heating temperatures
著者 (2件):
資料名:
巻: 24  号:ページ: 3508-3513  発行年: 2013年09月 
JST資料番号: W0003A  ISSN: 0957-4522  CODEN: JMTSAS  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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本研究では,RFマグネトロンスパッタリングを用いて,AlドープZnO層を種々の基板加熱温度でガラス基板上に堆積した。電導度,微細構造および光電子特性を調べた。X線回折および電界放出走査型電子顕微鏡法を用いて,結晶方位と構造特性を解析した。光電子特性を,それぞれUV-可視NIR分光法とホール効果測定により測定した。その結果は,ZnO結晶の優先方位が種々の基板加熱温度に対して変化することを示した。200と400°Cの間の低い温度に対しては,主なピークは(103)に位置し,400°C以上の基板温度では主なピークは(002)に戻る。種々の基板加熱条件の比較は,電導度が基板加熱温度とともに明らかに増加し,特に300°Cでは,2.356×10-3Ωの最低の抵抗が達成され,400から800nmまでの可視光の平均透過率が約92%であることを示した。低密度でよく分布したAlナノ構造が高分解能透過型電子顕微鏡法により観察され,それは重要な役割を演ずる。Copyright 2013 Springer Science+Business Media New York Translated from English into Japanese by JST.
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分類 (1件):
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酸化物薄膜 

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