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J-GLOBAL ID：201302227153378443   整理番号：13A0715338

2-ヒドロキシフェナシルエステル: 新たな光除去可能な保護基

2-Hydroxyphenacyl ester: a new photoremovable protecting group

著者 (9件)： NGOY Bokolombe Pitchou (Masaryk Univ., Brno, CZE) ,  SEBEJ Peter (Masaryk Univ., Brno, CZE) ,  SOLOMEK Tomas (Masaryk Univ., Brno, CZE) ,  LIM Bum Hee (Dongguk Univ., Seoul, KOR) ,  PASTIERIK Tomas (Masaryk Univ., Brno, CZE) ,  PARK Bong Ser (Dongguk Univ., Seoul, KOR) ,  GIVENS Richard S. (Univ. of Kansas, Lawrence, USA) ,  HEGER Dominik (Masaryk Univ., Brno, CZE) ,  KLAN Petr (Masaryk Univ., Brno, CZE)
資料名： Photochemical & Photobiological Sciences  (Photochemical & Photobiological Sciences)
巻： 11  号： 9  ページ： 1465-1475  発行年： 2012年09月 
JST資料番号： A1641A  ISSN： 1474-9092  CODEN： PPSHCB  資料種別： 逐次刊行物 (A)
発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

タイトルに関連する用語 (1件)： 保護基