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J-GLOBAL ID：201302227493293728   整理番号：13A0075932

超至近投影光学系の開発

著者 (3件)： 高橋達也 (リコー) ,  藤田和弘 (リコー) ,  安部一成 (リコー)
資料名： Ricoh Technical Report  (Ricoh Technical Report)
号： 38  ページ： 15-21  発行年： 2012年12月25日 
JST資料番号： Z0825A  ISSN： 0387-7795  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 近年,設置性・利便性の観点から超至近投写プロジェクターの開発が求められている。しかしながら,このようなプロジェクターは拡大倍率及びスクリーンへの光線入射角が大きいため,解像度の向上,ディストーションの低減が困難である。そこで,小型,高画質,超至近投写を達成するために,自由曲面ミラーを採用した投影光学系を開発した。本光学系における,投射距離の光学系サイズ,画質との関係を明らかにする。更に,折り返しミラーを配した光学系小型化を説明する。この光学系を2011年11月発売の超至近投写プロジェクター「IPSiO PJ WX4130」に適用し,世界最小・最軽量を実現した。(著者抄録)

シソーラス用語： 技術開発 ,  *投影機 ,  *投写形ディスプレイ ,  近接場 ,  倍率 ,  スクリーン ,  分解能 ,  画像歪 ,  画質 ,  *反射鏡 ,  歪補正 ,  光線追跡 ,  小型化
準シソーラス用語： 光ビーム投影 ,  自由曲面 ,  利便性

分類 (3件)： 光デバイス一般  (BD06010L) ,  その他の光学機器  (QF05060C) ,  表示機器  (NC06030Q)

タイトルに関連する用語 (2件)： 投影光学系 ,  開発