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J-GLOBAL ID:201302229087320628   整理番号:13A1263845

温度場内の過冷却膜と赤外線ステルス技術の適用

Application of subcooling films in temperature field and infrared stealth technology
著者 (3件):
資料名:
巻: 41  号: 10  ページ: 2572-2577  発行年: 2012年 
JST資料番号: C2521A  ISSN: 1007-2276  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 中国 (CHN)  言語: 中国語 (ZH)
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一定温度の垂直平板上を流動する,赤外線ステルスへの落下液体膜の過冷却の手法の分析的研究を実施した。過冷却膜の層流と熱伝達のモデルを確立した。落下液体膜の表面温度分布を,積分法の手法を適用することによって発表し,解決の精度は上がった。種々の研究者の結果を実験結果と比較して,熱境界層の厚さと液体膜の厚さ,吸気口温度,膜の流量,液体速度の間の関係の変化が,液体膜の表面温度の変化につながる。種々の要素の下の膜の抗赤外線の効果を評価した。結果から,過冷却膜技術は単純で,軍事標的の赤外線記名の抑制に効果的で,赤外線ステルス効果を,液体膜の流量の増大,又は液体膜の吸気口温度の低下,又は液体速度の増大によって強化できる。将来の赤外線ステルスみおける過冷却膜の適用は明るい。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST
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分類 (1件):
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物理学一般 
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