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J-GLOBAL ID：201302230403262560   整理番号：13A0953109

位相感受性和周波数発生分光法

Phase-Sensitive Sum-Frequency Spectroscopy

著者 (1件)： SHEN Y.R. (Univ. California, California)
資料名： Annual Review of Physical Chemistry  (Annual Review of Physical Chemistry)
巻： 64  ページ： 129-150  発行年： 2013年 
JST資料番号： W1684A  ISSN： 0066-426X  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 文献レビュー  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 位相感受性和周波数発生分光法(SFS)は表面の非線形応答を複素観測する。理論,実験技術および応用例を総説した。A.背景 B.界面における和周波数発生の基礎理論 C.位相感受性和周波数発生分光法技術 C1.位相測定のための界面の準備 C2.位相測定の基盤理論 C3.実験装置 D.位相感受性和周波数発生分光法による研究 D1.非線形光学感受率における初期の位相測定 D2.位相感受性和周波数発生分光法による最近の研究(シリカ上の界面活性剤単分子層;水/酸化物界面;ニート水/空気界面;等方希釈水/空気界面;水/空気界面に吸着したイオン;酸及び塩基溶液の水/空気界面;Langmuir単分子層下の水相;水/疎水性界面) E.まとめ。

シソーラス用語： *和周波数発生 ,  応答 ,  *光学定数 ,  *振幅 ,  *界面 ,  界面活性剤 ,  単分子層 ,  水 ,  酸化物 ,  空気 ,  イオン ,  塩基 ,  酸 ,  水溶液 ,  Langmuir膜 ,  疎水性 ,  *表層構造 ,  二酸化ケイ素
準シソーラス用語： シリカ ,  非線形応答 ,  *非線形光学感受率 ,  *複素振幅

分類 (2件)： 非線形光学  (BD05000T) ,  界面化学一般  (CB12010J)

タイトルに関連する用語 (4件)： 位相 ,  感受性 ,  和周波数発生 ,  分光法