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J-GLOBAL ID：201302233386582881   整理番号：13A0400040

単原子層制御交互蒸着により作製したL1₀型FeNi規則合金薄膜の磁気異方性

著者 (9件)： 小嶋隆幸 (東北大 金属材料研) ,  荻原美沙子 (東北大 金属材料研) ,  水口将輝 (東北大 金属材料研) ,  田代敬之 (東北大 金属材料研) ,  高梨弘毅 (東北大 金属材料研) ,  小嗣真人 (SPring-8) ,  小金澤智之 (SPring-8) ,  大槻匠 (SPring-8) ,  大河内拓雄 (SPring-8)
資料名： 表面科学学術講演会講演要旨集  (表面科学学術講演会要旨集)
巻： 32nd  ページ： 208  発行年： 2012年11月20日 
JST資料番号： L1366A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： 真空蒸着 ,  *ニッケル合金 ,  鉄含有合金 ,  規則合金 ,  *化学蒸着 ,  バッファ層 ,  金 ,  銅 ,  同時蒸着 ,  曲線 ,  *一軸磁気異方性 ,  エネルギー ,  *飽和磁化 ,  金属薄膜 ,  蒸着膜
準シソーラス用語： *原子層蒸着 ,  磁化曲線 ,  磁気異方性エネルギー

分類 (1件)： 金属の磁気異方性・磁気機械効果  (BM06102S)

タイトルに関連する用語 (6件)： 単原子層 ,  蒸着 ,  作製 ,  規則 ,  合金薄膜 ,  磁気異方性