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J-GLOBAL ID：201302233712776373   整理番号：13A1156545

負イオンを有するVHF SiH₄/H₂プラズマ特性

VHF SiH₄/H₂ plasma characteristics with negative ions

著者 (8件)： YAMANE Tsukasa (Solar Power Dep., Mitsubishi Heavy Industries Ltd., Isahaya, Nagasaki, 854-0065, JPN) ,  NAKAO Sachiko (Solar Power Dep., Mitsubishi Heavy Industries Ltd., Isahaya, Nagasaki, 854-0065, JPN) ,  TAKEUCHI Yoshiaki (Solar Power Dep., Mitsubishi Heavy Industries Ltd., Isahaya, Nagasaki, 854-0065, JPN) ,  YAMAUCHI Yasuhiro (Solar Power Dep., Mitsubishi Heavy Industries Ltd., Isahaya, Nagasaki, 854-0065, JPN) ,  TAKATSUKA Hiromu (Solar Power Dep., Mitsubishi Heavy Industries Ltd., Isahaya, Nagasaki, 854-0065, JPN) ,  MUTA Hiroshi (Interdisciplinary Graduate School of Engineering Sciences, Kyushu Univ., Kasugakoen 6-1, Kasuga, Fukuoka 816-8580, JPN) ,  UCHINO Kiichiro (Interdisciplinary Graduate School of Engineering Sciences, Kyushu Univ., Kasugakoen 6-1, Kasuga, Fukuoka 816-8580, JPN) ,  KAWAI Yoshinobu (Interdisciplinary Graduate School of Engineering Sciences, Kyushu Univ., Kasugakoen 6-1, Kasuga, Fukuoka 816-8580, JPN)
資料名： Surface & Coatings Technology  (Surface & Coatings Technology)
巻： 228  号： Supplement 1  ページ： S433-S436  発行年： 2013年08月15日 
JST資料番号： D0205C  ISSN： 0257-8972  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： VHF SiH₄/H₂プラズマをマルチロッド電極を用いて作製し,プラズマパラメータを加熱したラングミュアプローブを用いて測定し,プラズマ電源の周波数は80MHzとした。ラングミュアプローブ特性からSiH₄/H₂濃度が増加すると負イオンが現れ,同時に,電子温度が上昇することを示した。Copyright 2013 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *プラズマ ,  *VHF【周波数】 ,  *シラン ,  *水素 ,  *プラズマパラメータ ,  Langmuir探針 ,  *アニオン ,  電子温度 ,  閉込め ,  *太陽電池 ,  ケイ素 ,  微結晶 ,  電子密度 ,  晶析速度
準シソーラス用語： Langmuirプローブ ,  VHFプラズマ ,  微結晶シリコン ,  負イオン

分類 (3件)： プラズマ平衡・閉込め  (BJ02070P) ,  プラズマ応用  (BJ02110K) ,  太陽電池  (NC03084O)

タイトルに関連する用語 (5件)： 負イオン ,  VHF ,  SiH4 ,  H2 ,  プラズマ特性