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J-GLOBAL ID：201302234793114244   整理番号：13A0762944

ポリメチルシルセスキオキサン膜の熱安定性,耐久性,温度依存性の疎油性表面

A thermally stable, durable and temperature-dependent oleophobic surface of a polymethylsilsesquioxane film

著者 (4件)： URATA Chihiro (National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Aichi, JPN) ,  MASHEDER Benjamin (National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Aichi, JPN) ,  CHENG Dalton F. (National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Aichi, JPN) ,  HOZUMI Atsushi (National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Aichi, JPN)
資料名： Chemical Communications  (Chemical Communications)
巻： 49  号： 32  ページ： 3318-3320  発行年： 2013年04月25日 
JST資料番号： D0376B  ISSN： 1359-7345  CODEN： CHCOFS  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： スライドガラス,ステンレススチール,ポリイミドフィルム上に,透明で平らなポリメチルシルセスキオキサン(PMSQ)膜を調製し,その特性を調べた。単純ゾル-ゲル反応によりメチルトリエトキシシランを塗布してできたPMSQ膜は,高温(150~350°C)下でも疎油性を保っていた。空気中で350°C,24時間熱処理した後,少量のn-デロン液滴を膜表面に乗せたところ,傾斜角が低くても滑り落ちた。メチルシリル基のSi-C結合が熱安定であることから,PMSQ膜は熱安定性で,耐久性がある,塗装剤として有効であることがわかった。

シソーラス用語： *ポリシルセスキオキサン ,  *親和性 ,  傾斜角 ,  化学結合 ,  *熱安定性 ,  温度依存性 ,  基 ,  ゾル-ゲル法
準シソーラス用語： Si-C結合 ,  シリル基 ,  ゾル-ゲル合成 ,  *ポリメチルシルセスキオキサン ,  *疎油性

分類 (1件)： 高分子固体のその他の性質  (CG02025L)

物質索引 (1件)： メチルトリエトキシシラン

タイトルに関連する用語 (4件)： ポリメチルシルセスキオキサン ,  熱安定性 ,  温度依存性 ,  疎油性