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J-GLOBAL ID：201302235622852340   整理番号：13A1033077

ヒドロクロリック水溶液中のZrベース薄膜金属ガラスの電気化学的キャラクタリゼーション

Electrochemical characterization of Zr-based thin film metallic glass in hydrochloric aqueous solution

著者 (7件)： CHUANG Ching-yen (Dep. of Materials Engineering, Ming Chi Univ. of Technol., New Taipei City, 24301, Taiwan) ,  LIAO Yi-chia (Dep. of Mechanical Engineering, Tungnan Univ., New Taipei City, 222, Taiwan) ,  LEE Jyh-wei (Dep. of Materials Engineering, Ming Chi Univ. of Technol., New Taipei City, 24301, Taiwan) ,  LEE Jyh-wei (Center for Thin Film Technologies and Applications, Ming Chi Univ. of Technol., New Taipei City, 24301, Taiwan) ,  LI Chia-lin (Graduate Inst. of Applied Sci. and Technol., National Taiwan Univ. of Sci. and Technol., Taipei, 10607, Taiwan) ,  CHU Jinn P. (Dep. of Materials Sci. and Engineering, National Taiwan Univ. of Sci. and Technol., Taipei, 10607, Taiwan) ,  DUH Jenq-gong (Dep. of Materials Sci. and Engineering, National Tsing Hua Univ., Hsin-Chu, 300, Taiwan)
資料名： Thin Solid Films  (Thin Solid Films)
巻： 529  ページ： 338-341  発行年： 2013年02月01日 
JST資料番号： B0899A  ISSN： 0040-6090  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 最近,薄膜金属ガラスは構造応用のために際立って有望なエンジニアリング材料を代表する。この研究では,Zrベース薄膜金属ガラス(TFMG)がパルスDCマグネトロンスパッタリングシステムによってZr-Cu-Ni-Al合金と純Zr金属ターゲットを使用するSiとAISI420基板上で製作された。ZrベースTFMGの塩化水素(HCl)水溶液での化学組成,結晶構造,微細構造,そして腐食挙動が研究された。結果はZrベースTFMGの表面形態が非常に滑らかであることを示した。TFMGはX線回折計と透過型電子顕微鏡解析によって特性評価された。動電位分極試験後,より良い耐食性が1mM HCl水溶液中のZrベースTFMG被覆AISI420に対して達成された。腐食した表面の表面形態学と化学分析結果に基づいて,孔食,隙間腐食,そして糸状腐食が見出された。ZrベースTFMGの腐食メカニズムがこの研究で検討された。Copyright 2013 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *金属ガラス ,  *薄膜 ,  ジルコニウム ,  非晶質 ,  *腐食 ,  マグネトロンスパッタリング ,  耐食性 ,  電気化学
準シソーラス用語： DCマグネトロンスパッタリング ,  *薄膜金属ガラス

分類 (2件)： 金属薄膜  (BK14030T) ,  腐食  (WB03030B)

タイトルに関連する用語 (6件)： 水溶液 ,  Zr ,  薄膜金属 ,  ガラス ,  電気化学 ,  キャラクタリゼーション