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J-GLOBAL ID：201302235722563508   整理番号：13A1826800

高出力インパルスマグネトロンスパッタリングに基づくサイズ選別ナノクラスタイオン用の高フラックスイオン源の開発

Development of High-flux Ion Source for Size-selected Nanocluster Ions Based on High-power Impulse Magnetron Sputtering

著者 (9件)： TSUNOYAMA Hironori (Dep. of Chemistry, Fac. of Sci. and Technol., Keio Univ.) ,  TSUNOYAMA Hironori (Exploratory Res. for Advanced Technol., Japan Sci. and Technol. Agency) ,  ZHANG Chuhang (Dep. of Chemistry, Fac. of Sci. and Technol., Keio Univ.) ,  ZHANG Chuhang (Exploratory Res. for Advanced Technol., Japan Sci. and Technol. Agency) ,  AKATSUKA Hiroki (Dep. of Chemistry, Fac. of Sci. and Technol., Keio Univ.) ,  SEKIYA Hiroki (Dep. of Chemistry, Fac. of Sci. and Technol., Keio Univ.) ,  NAGASE Tomomi (Dep. of Chemistry, Fac. of Sci. and Technol., Keio Univ.) ,  NAKAJIMA Atsushi (Dep. of Chemistry, Fac. of Sci. and Technol., Keio Univ.) ,  NAKAJIMA Atsushi (Exploratory Res. for Advanced Technol., Japan Sci. and Technol. Agency)
資料名： Chemistry Letters  (Chemistry Letters)
巻： 42  号： 8  ページ： 857-859 (J-STAGE)  発行年： 2013年 
JST資料番号： S0742A  ISSN： 0366-7022  CODEN： CMLTAG  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本研究で,高出力インパルスマグネトロンスパッタリング法に基づくサイズ選別ナノクラスタの高度に強力なイオン源を開発した。サイズ選別銀ナノクラスタアニオンの最大強度は,標準のイオン源の10倍以上を越えた。本方法において高い強度を,高スループットのイオン光学および高いイオン化割合で達成した。ナノクラスタのサイズ分布の微細調整も提示した。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *銀 ,  *ナノクラスタ ,  アニオン ,  イオン光学 ,  イオン化 ,  *マグネトロンスパッタリング ,  出力 ,  運動量 ,  時間 ,  力 ,  長さ ,  選択性 ,  クラスタイオン ,  フラックス【流束】 ,  *イオン源 ,  スループット ,  分布 ,  調整 ,  高出力 ,  力積
準シソーラス用語： インパルス ,  サイズ ,  サイズ分布 ,  微調整

分類 (5件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  スパッタリング  (BK16110U) ,  無機化合物一般及び元素  (CD01010D) ,  イオンとの相互作用  (BK16070Z) ,  原子・分子のクラスタ  (BH09030O)

引用文献 (27件)：

• 1) Nanocatalysis in Nanoscience and Technology, ed. by U. Heiz, U. Landman, Springer-Verlag, Berlin, 2007. doi:10.1007/978-3-540-32646-5.
• 2) R. L. Johnston, <i>Atomic and Molecular Clusters</i>, Taylor & Francis, London, <b>2002</b>.
• 3) H. W. Kroto, J. R. Heath, S. C. O’Brien, R. F. Curl, R. E. Smalley, Nature 1985, 318, 162.
• 4) S. Wei, B. C. Guo, H. T. Deng, K. Kerns, J. Purnell, S. A. Buzza, A. W. Castleman, Jr., J. Am. Chem. Soc. 1994, 116, 4475.
• 5) S. M. Beck, J. Chem. Phys. 1989, 90, 6306.

タイトルに関連する用語 (9件)： 高出力 ,  インパルス ,  マグネトロンスパッタリング ,  サイズ ,  選別 ,  クラスタイオン ,  フラックス ,  イオン源 ,  開発