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J-GLOBAL ID：201302236561232898   整理番号：13A0575654

らせん高分子配位子PQXphosを用いた不斉シリルホウ素化におけるらせん高分子構造がもたらす触媒活性と選択性の向上

著者 (5件)： 山本武司 (京大 大学院) ,  赤井勇斗 (京大 大学院) ,  長田裕也 (京大 大学院) ,  大村智通 (京大 大学院) ,  杉野目道紀 (京大 大学院)
資料名： 高分子学会予稿集(CD-ROM)  (高分子学会討論会予稿集(CD-ROM))
巻： 61  号： 2  ページ： ROMBUNNO.2E11  発行年： 2012年09月05日 
JST資料番号： Z0703C  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *パラジウム触媒 ,  ヘリックス構造 ,  高分子触媒 ,  不斉触媒 ,  触媒活性 ,  選択性 ,  付加反応 ,  化学反応 ,  *不斉合成 ,  光学活性高分子 ,  ポリキノキサリン ,  *配位子 ,  置換基効果
準シソーラス用語： *シリルホウ素化 ,  *高分子配位子

分類 (2件)： 貴金属触媒  (CB06122I) ,  高分子担体・触媒反応  (CG03030W)

物質索引 (2件)： メチレンシクロプロパン ,  ジフェニル(メチル)(4,4,5,5-テトラメチル-1,3,2-ジオキサボロラン-2-イル)シラン

タイトルに関連する用語 (4件)： らせん高分子 ,  配位子 ,  ホウ素化 ,  触媒活性