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J-GLOBAL ID：201302237029740164   整理番号：13A0495295

エルビウム薄膜の光ルミネセンス挙動への構造特性の影響研究

Study of the Effects of Structural Properties on the Photoluminescence Behavior of Erbium Thin Films

著者 (4件)： KAMINENI Himani S. (Univ. NY, USA) ,  GALLIS Spyros (IBM Microelectronics, NY, USA) ,  HUANG Mengbing (Univ. NY, USA) ,  KALOYEROS Alain E. (Univ. NY, USA)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 8463  ページ： 84630E.1-84630E.7  発行年： 2012年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： エルビウムベース材料は効率的室温発光へのオプトエレクトロニクス応用候補として有望な性質を表す。過去の研究で,Erベース材料の蒸着方法を調べた。本研究では,酸化エルビウムとケイ酸塩の膜を電子ビーム銃(EBG)蒸発システムを用いたエルビウム金属相の蒸着とその後のポスト蒸着酸化焼なましによって製作した。Erベース膜の基本特性を理解することが材料設計に不可欠である。従って,本研究の目標はErベース膜の構造特性と光ルミネセンスキャラクタリゼーションの間の相関を示すことにある。膜の構造と光学特性へのポスト蒸着焼なまし条件の影響を分光エリプソメトリ,X線回折,X線光電子分光法によって調べた。

シソーラス用語： *エルビウム ,  *金属薄膜 ,  *光ルミネセンス ,  *構造特性 ,  室温 ,  発光 ,  オプトエレクトロニクス ,  蒸着 ,  酸化エルビウム ,  ケイ酸塩 ,  電子銃 ,  電子ビーム蒸着 ,  酸化 ,  焼なまし ,  材料設計 ,  キャラクタリゼーション ,  相関 ,  光学的性質 ,  偏光解析法 ,  X線回折 ,  X線光電子分光法
準シソーラス用語： 分光エリプソメトリ

分類 (2件)： 金属薄膜  (BK14030T) ,  ルミネセンス一般  (BM08091B)

タイトルに関連する用語 (6件)： エルビウム ,  薄膜 ,  光ルミネセンス ,  挙動 ,  構造特性 ,  研究