文献

J-GLOBAL ID：201302237139078220   整理番号：13A1001964

生体細胞中のナノ距離の低エネルギーイオンビーム誘起DNA移送

Nano-ranged low-energy ion-beam-induced DNA transfer in biological cells

著者 (11件)： YU L.d. (Thailand Center of Excellence in Physics, Commission on Higher Education, 328 Si Ayutthaya Road, Bangkok 10400, THA) ,  YU L.d. (Plasma and Beam Physics Res. Facility, Dep. of Physics and Materials Sci., Fac. of Sci., Chiang Mai Univ., Chiang ...) ,  WONGKHAM W. (Dep. of Biology, Fac. of Sci., Chiang Mai Univ., Chiang Mai 50200, THA) ,  PRAKRAJANG K. (Plasma and Beam Physics Res. Facility, Dep. of Physics and Materials Sci., Fac. of Sci., Chiang Mai Univ., Chiang ...) ,  SANGWIJIT K. (Dep. of Biology, Fac. of Sci., Chiang Mai Univ., Chiang Mai 50200, THA) ,  INTHANON K. (Dep. of Biology, Fac. of Sci., Chiang Mai Univ., Chiang Mai 50200, THA) ,  THONGKUMKOON P. (Thailand Center of Excellence in Physics, Commission on Higher Education, 328 Si Ayutthaya Road, Bangkok 10400, THA) ,  THONGKUMKOON P. (Plasma and Beam Physics Res. Facility, Dep. of Physics and Materials Sci., Fac. of Sci., Chiang Mai Univ., Chiang ...) ,  WANICHAPICHART P. (Thailand Center of Excellence in Physics, Commission on Higher Education, 328 Si Ayutthaya Road, Bangkok 10400, THA) ,  WANICHAPICHART P. (Membrane Sci. and Technol. Res. Center, Dep. of Physics, Fac. of Sci., Prince of Songkla Univ., Hat Yai, Songkla ...) ,  ANUNTALABHOCHAI S. (Dep. of Biology, Fac. of Sci., Chiang Mai Univ., Chiang Mai 50200, THA)
資料名： Applied Surface Science  (Applied Surface Science)
巻： 275  ページ： 136-141  発行年： 2013年06月15日 
JST資料番号： B0707B  ISSN： 0169-4332  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 数十keVの低エネルギーイオンビームが植物や細菌の細胞中への外因性巨大分子の移送を誘起できることを実証した。このプロセスでは,エネルギーとフルエンスをよく制御したイオンビームで生きた細胞を衝撃し,細胞外皮にある程度の損傷をナノスケールで生じさせ,DNAなどの巨大分子が細胞外皮を通って細胞内に入りやすくする。そこでこの方法を適用して生体種の積極的な改善を操作した。この物理的DNA移送法は,化学的および生物学的方法と比較して極めて効率的で,副作用のリスクが少なかった。このプロセスに関与する機構をより理解するために,その機構に関する系統的な研究を行った。この方法の応用は生物や細菌の細胞中でのDNA移送から,幹細胞療法が目的の可能性があるヒトの癌細胞中のDNAの形質移入まで広がっている。この実験で応用した低エネルギーの窒素とアルゴンのイオンビームはほとんどが高分子セルロースからなる細胞外皮膜中で100nm以下の距離にある。このイオンビーム衝撃が高分子に分子鎖切断が支配的な損傷と外皮膜のインピーダンスの増加などの電気的特性を生じる。このような細胞外皮のナノ改質が結果として外皮膜の浸透性を向上させ,DNA移送がしやすくなる。この方向の研究の詳細を報告した。Copyright 2013 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： 10-100keV ,  *低エネルギー領域 ,  *イオンビーム ,  細胞 ,  *DNA【核酸】 ,  *細胞内輸送 ,  生体組織 ,  照射損傷 ,  幹細胞 ,  *腫瘍細胞 ,  *トランスフェクション
準シソーラス用語： 外皮 ,  形質移入 ,  生体細胞

分類 (4件)： 細胞生理一般  (EF02010S) ,  核酸一般  (EB04010U) ,  電子ビーム・イオンビームの応用  (BD02070X) ,  腫ようの実験的治療  (GE02040Y)

タイトルに関連する用語 (6件)： 生体細胞 ,  低エネルギーイオン ,  ビーム ,  誘起 ,  DNA ,  移送