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J-GLOBAL ID：201302237360500874   整理番号：13A1233409

オンセット法を用いた仕事関数研究に及ぼすパッチフィールドの影響

Influence of the patch field on work function study using the onset method

著者 (4件)： TRIGUEIRO Joao ,  BUNDALESKI Nenad ,  SILVA Ana G. ,  TEODORO Orlando M.N.D.
資料名： Vacuum  (Vacuum)
巻： 98  ページ： 41-44  発行年： 2013年12月 
JST資料番号： E0347A  ISSN： 0042-207X  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： オンセット法に基づく仕事関数研究(WFS)は,吸着および脱着プロセスの研究に用いられる表面技術である。走査電子ビーム使用に適用されれば,一次ビームスポットサイズに匹敵し得る横方向解像度を持つ仕事関数表面マッピングに用い得る。このような実験配置は仕事関数顕微鏡観察(WFM)として知られている。非均一表面分布の仕事関数の場合には,異なった仕事関数を持つ領域間の接触電位が確立される。対応する電界は,パッチフィールドとして知られ,抑制電界電位を用いた仕事関数研究に影響する。この影響は,オンセット法を用いたときにも存在するが,この問題は今まで,これらの測定において取り組まれて来なかった。本報では,高仕事関数基板上の単一低仕事関数パッチ上の電位分布を計算した。電位分布を,WFSやWFM測定では普通の状況である外部電界の存在下で評価した。WFS及びWFM結果はパッチフィールドにより強く影響され得ることを示した。これらの説明は,外部電界と均一な局所仕事関数を有する領域(パッチ)サイズに依存した。Copyright 2013 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *吸着 ,  *脱着 ,  *仕事関数 ,  *接触電位差 ,  顕微鏡観察 ,  表面電位 ,  電位分布 ,  二次電子放出 ,  ポテンシャル障壁 ,  *Laplace方程式

分類 (2件)： 電子放出一般  (BM09010H) ,  物理的手法を用いた吸着の研究  (CB12043P)

タイトルに関連する用語 (4件)： 仕事関数 ,  研究 ,  パッチ ,  フィールド