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J-GLOBAL ID:201302237582905775   整理番号:13A1576537

自動化され,50nm精度ノズルスキマー位置決めを有する自由噴流(超音速),分子ビーム源

A free jet (supersonic), molecular beam source with automatized, 50 nm precision nozzle-skimmer positioning
著者 (5件):
資料名:
巻: 84  号:ページ: 093303-093303-10  発行年: 2013年09月 
JST資料番号: D0517A  ISSN: 0034-6748  CODEN: RSINAK  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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低エネルギー(熱)自由噴流(超音速),分子ビームが表面科学や表面蒸着から量子コヒーレンスと気体運動論的実験までの適用範囲で使用される。自由噴流分子ビームが小さな装置(ノズル)を通して圧力リザーバ-から気体膨張によって生成される。ノズルは典型的には,2-20μmの直径をもつ。ビームの中心部分は,典型的には直径で500μmまでのスキマ-を使用して選択される。近年,マイクロメートルスキマーやマイクロメートルあるいはサブマイクロメートルノズルに基づいた極めて空間的に閉じ込められたビーム源の導入がなされた。そのような源が,例えば,超流動の研究や中性ヘリウム顕微鏡に応用された。しかしながら,現在までに,ノズルに関したマイクロ-スキマーの正確な位置決めを可能にするソース設計は使用可能でなかった。スキマーやノズルの相対位置がビーム特性にかなり影響を及ぼすが故にこれは重要な問題である。ここでは,筆者らは新しい分子ビーム源の設計と実装を紹介する。そして,それは自動化され,ノズルに関してスキマーの50nmの精度の位置決めを可能にする。ソースは冷却された液体窒素であり,温度は数時間にわたって±0.1K以下の温度ゆらぎを有し110Kと350Kの間に制御される。直径で5μmのノズルと5μmのスキマーを使用するビーム強度測定が3-180バールの範囲で淀み圧力poに対して紹介される。3.5μmスキマーと5μmノズルを使用する2Dビーム形状スキャンが新しい設計の汎用性の更なる文書化として,そしてビーム特性に及ぼす相対スキマー-ノズル位置の影響の説明として紹介される。(翻訳著者抄録)
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分類 (1件):
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原子ビーム,分子ビーム 
タイトルに関連する用語 (4件):
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