ゾル-ゲル法による疎水性表面に対するポリウレタン/シロキサン架橋薄膜に関する物理化学的研究

MEERA Kamal Mohamed Seeni; SANKAR Rajavelu Murali; JAISANKAR Sellamuthu N.; MANDAL Asit Baran

文献

J-GLOBAL ID：201302237621821185 整理番号：13A0736725

ゾル-ゲル法による疎水性表面に対するポリウレタン/シロキサン架橋薄膜に関する物理化学的研究

Physicochemical Studies on Polyurethane/Siloxane Cross-Linked Films for Hydrophobic Surfaces by the Sol-Gel Process

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資料名：
巻： 117 号： 9 ページ： 2682-2694 発行年： 2013年03月07日
JST資料番号： W0921A ISSN： 1520-6106 CODEN： JPCBFK 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

シロキサン架橋が良好な熱安定性と光透過率を有する疎水性表面薄膜を得るため使用できるかを調べる脈絡で,ヒマシ油,イソホロンジイソシアナート及び3-アミノプロピルチリメチルシロキサンを用いゾル-ゲル法によって一連のヒマシ油に基づくポリウレタン/シロキサン架橋薄膜を調製した。FTIRスペクトルはポリウレタンとシロキサン部分間の架橋相互作用,それによる特性N-HとC=O基の一層高い波数へピーク位置のシフトを明らかにした。ポリウレタン系にシロキサンネットワーク結合の生成を調べるため²⁹Si(シリカ)NMRスペクトルを使用し,それによってポリウレタン/シロキサン架橋薄膜に存在するSi環境を解析した。ポリウレタン薄膜の劣化に対する二ステージ(T_MAX1とT_MAX2)で活性化エネルギー値はシラン比増と共に増加した。一層高いシラン比(1.5)に対する計算活性化エネルギー値はT_MAX1とT_MAX2に対してそれぞれ136と170kJ/molである。接触角測定から,シロキサン架橋を増すことが薄膜の疎水性度を増すことを観察した。紫外可視スペクトルから得た光透過率は薄膜試料が範囲300~800nmで透明であることを指示した。水分吸着/脱着等温線は疎水性材料に対応するIII型等温線の特有挙動を示した。動的機械研究は貯蔵弾性率における増加がシロキサン架橋は薄膜に剛性を与えることを示した。原子間力顕微鏡像はシロキサンの導入がポリウレタン薄膜の表面粗さを変えることを示した。

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高分子固体の構造と形態学

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