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J-GLOBAL ID:201302237975052510   整理番号:12A1809956

ナノ構造のホウ素添加NiO薄膜の光学特性

Optical properties of nanostructure boron doped NiO thin films
著者 (10件):
資料名:
巻: 64  号:ページ: 728-733  発行年: 2012年12月 
JST資料番号: W0812A  ISSN: 0928-0707  CODEN: JSGTEC  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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ホウ素添加NiO膜をゾル-ゲル法により調製した。NiO膜の形態学的および光学的特性に及ぼすB含有量の影響を原子間力顕微鏡と光学特性評価方法により検討した。低添加膜(0.1及び0.2%B)に対する可視領域での平均透過率は75%に達した。一方,領域全体に1%のBを添加した膜の記録された透過率の平均値は約62%であった。純粋なNiO膜に対する光学エネルギーギャップの値は3.73eVであった。これらの値はB添加により非単調的に変化し,0.1%B添加NiOで3.64eVに達した。また,NiO膜の屈折率分散と誘電率を調査波長範囲全体で検討した。得られた結果はNiO膜の光学パラメータはホウ素添加で制御可能であること示した。Copyright 2012 Springer Science+Business Media New York Translated from English into Japanese by JST.
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分類 (2件):
分類
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酸化物薄膜  ,  光物性一般 
タイトルに関連する用語 (4件):
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