シス-およびトランス-HO<sub>3</sub>ラジカルの相対的エネルギーおよび構造のパラメトリック2電子還元密度行列による研究

HOY Erik P.; SCHWERDTFEGER Christine A.; MAZZIOTTI David A.

文献

J-GLOBAL ID：201302238042112624 整理番号：13A0736620

シス-およびトランス-HO₃ラジカルの相対的エネルギーおよび構造のパラメトリック2電子還元密度行列による研究

Relative Energies and Geometries of the cis- and trans-HO₃ Radicals from the Parametric 2-Electron Density Matrix Method

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巻： 117 号： 8 ページ： 1817-1825 発行年： 2013年02月28日
JST資料番号： C0334B ISSN： 1089-5639 CODEN： JPCAFH 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

開発した2-RDM法(パラメトリック2電子還元密度行列)を用いてトランスおよびシス型HO₃ラジカルのエネルギー状態を計算し,既存のCCSD法,CCSD(T)法と比較した。シスおよびトランス型のエネルギー差が得られない既存の方法と異なって,HO₃ラジカルではトランス型が安定であり,相対エネルギー差は1.71kcal/mol(cc-pVQZ基底)または1.84kcal/mol(aug-cc-pVQZ基底)と求められた。トリプルζ規定を用いた計算ではトランス型基底状態のO-O結合距離は1.6187Åと計算された。シス型および異性化反応の中間体を含めた,基底および励起状態のエネルギー準位,基準振動および分子構造を計算した。

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非金属化合物 , 分子の幾何学的構造一般

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シス-およびトランス-HO3ラジカルの相対的エネルギーおよび構造のパラメトリック2電子還元密度行列による研究

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