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J-GLOBAL ID：201302238221228589   整理番号：13A1321883

Cu/Ti二重層薄膜のマルチフラクタル解析

Multifractal analysis for Cu/Ti bilayer thin films

著者 (8件)： LIN Qi-Jing (Xi’an Jiaotong Univ., Xi’an, CHN) ,  YANG Shu-Ming (Xi’an Jiaotong Univ., Xi’an, CHN) ,  YANG Shu-Ming (Huazhong Univ. Sci. and Technol., Wuhan, CHN) ,  WANG Chen-Ying (Xi’an Jiaotong Univ., Xi’an, CHN) ,  WANG Chen-Ying (Tianjin Univ.) ,  WANG Chen-Ying (Tsinghua Univ., Tianjin, CHN) ,  DING Jian-Jun (Xi’an Jiaotong Univ., Xi’an, CHN) ,  JIANG Zhuang-De (Xi’an Jiaotong Univ., Xi’an, CHN)
資料名： Surface and Interface Analysis  (Surface and Interface Analysis)
巻： 45  号： 8  ページ： 1223-1227  発行年： 2013年08月 
JST資料番号： E0709A  ISSN： 0142-2421  CODEN： SIANDQ  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本研究で,二金属Cu/Ti薄膜をSi(111)基板にマグネトロンスパッタリング法を利用して蒸着時間とスパッタリング・シーケンスの制御によって作成した。この膜のミクロ構造をX線回折(XRD)法によって測定して解析し,表面形態を走査型電子顕微鏡(SEM)と原子間力顕微鏡(AFM)によって測定した。RqとQaなどの通常のパラメーターを利用してAFM画像を特性化した。またマルチフラクタルスペクトルのパラメーター(Δα,Δf)を利用して薄膜の成長と表面の粗さを特性化した。マルチフラクタル解析は|q|_max≦53を与えた。Cu/Ti/SiのΔαと|Δf|は,Ti/Cu/Siの値よりもいずれも大きく,Ti/Cu/Si薄膜の成長がTi/Cu/Si薄膜よりも均一で,表面が円滑であることを意味する。本研究の結果は,マルチフラクタル解析が通常の数値法よりも詳細な情報を与えることを示す。

シソーラス用語： *銅 ,  *チタン ,  *金属薄膜 ,  *解析 ,  *多層膜 ,  マグネトロンスパッタリング ,  形態 ,  表面構造 ,  薄膜成長 ,  表面粗さ
準シソーラス用語： *マルチフラクタル解析 ,  *二重層 ,  表面形態

分類 (1件)： 金属薄膜  (BK14030T)

タイトルに関連する用語 (5件)： Cu ,  Ti ,  二重層 ,  薄膜 ,  マルチフラクタル解析