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J-GLOBAL ID：201302238411502547   整理番号：13A0845325

マイクロ波照射生成に対する高電流パルス電子ビーム源の陰極表面プラズマの発達メカニズム

Development mechanism of cathode surface plasmas of high current pulsed electron beam sources for microwave irradiation generation

著者 (6件)： LI Limin (National Univ. of Defense Technol., Changsha, CHN) ,  CHANG L. (National Univ. of Defense Technol., Changsha, CHN) ,  ZHANG L. (National Univ. of Defense Technol., Changsha, CHN) ,  LIU J. (National Univ. of Defense Technol., Changsha, CHN) ,  CHEN G. (National Univ. of Defense Technol., Changsha, CHN) ,  WEN J. (National Univ. of Defense Technol., Changsha, CHN)
資料名： Laser and Particle Beams  (Laser and Particle Beams)
巻： 30  号： 4  ページ： 541-551  発行年： 2012年12月 
JST資料番号： H0874A  ISSN： 0263-0346  資料種別： 逐次刊行物 (A)
発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

タイトルに関連する用語 (6件)： マイクロ波照射 ,  高電流 ,  パルス電子ビーム ,  陰極 ,  発達 ,  メカニズム